教員詳細情報

研究分野・キーワード

• プラズマエレクトロニクス、プラズマプロセス、高効率プラズマ生成、回転マグネトロンスパッタ、超撥水性薄膜、半導体薄膜、負イオン源、ナノ構造体合成

学歴

• 1989年03月, 佐賀大学, 理工学部, 電気工学科, 卒業
• 1991年03月, 佐賀大学, 理工学研究科, 電気工学専攻, 修士課程・博士前期課程, 修了

職歴

• 1991年04月 - 1997年03月 佐賀大学理工学部 助手
• 1993年05月 - 1994年02月 文部省内地留学　名古屋大学大学院工学研究科客員 研究員
• 1997年04月 - 2002年03月 佐賀大学理工学部 講師
• 2002年04月 - 2007年03月 佐賀大学理工学部 助教授
• 2007年04月 - 2010年03月 佐賀大学理工学部電気電子工学科 准教授
• 2010年04月 - 2014年12月 佐賀大学大学院工学系研究科電気電子工学講座 准教授
• 2015年01月 - 2019年03月 佐賀大学大学院工学系研究科電気電子工学専攻 教授
• 2019年04月 - 継続中 佐賀大学教育研究院自然科学域理工学系（理工学部電気電子工学部門） 教授
• 2020年04月 - 継続中 佐賀大学海洋エネルギー研究所併任 教授

専門分野

• プラズマエレクトロニクス, プラズマ科学

所属学会

• 応用物理学会, 日本ＭＲＳ－Ｊ, プラズマ・核融合学会, 九州工学教育協会, 電気学会

受賞歴

• AIP Publishing AIP Advnaces Vol.7, Issue 5, May 2017 "Editor's Picks" （2017年05月）
• IOP Publishing 'Outstanding Reviewer' Award （2020年03月）
• IOP trusted reviewer status （2020年09月）
• Nature research Scientific reports October 2021 Reviewers （2021年10月）
• IOP Trusted Reviewer Status （2022年09月）
• AIP Publishing Journal of Vacuum Science and Technology A Vol.42, Issue 3, May/June 2024 "Featured Articles" （2024年05月）

現在実施している研究テーマ

• ホローカソード放電による高密度均一プラズマプロセス装置の開発
• 高周波放電による撥水性薄膜合成装置の開発
• 高周波容量結合放電による大面積均一高密度プラズマ成膜装置の開発
• 次世代自動車窓材のためのポリカーボネイト上への撥水性薄膜合成
• 新方式スパッタ法による透明導電膜AZO薄膜の低温形成
• 回転型マグネトロンスパッタによるターゲットの完全利用に関する研究
• 水素負イオンプラズマの高密度化に関する研究
• 新規ホロー磁化放電による高密度水素プラズマ源の開発

主要業績

• Effect of multi-cusp magnetic fields to generate a high-density hydrogen plasma inside a low pressure H_2 cylindrical hollow cathode discharge 2024年09月
• Characteristics of a hybrid radio-frequency capacitively and inductively coupled plasma using hydrogen gas 2024年07月
• Production of a high-density hydrogen plasma in a capacitively coupled RF discharge with a hollow cathode enclosed by magnets 2024年05月
• 佐賀大学プラズマエレクトロニクス研究室の紹介 2023年12月
• Design of rotational RF magnetron sputtering plasma and its characteristics for target utilization saving resources 2023年10月
• Spatial distributions of the ion flux in a capacitive hydrogen RF discharge using a hollow cathode with double toroidal grooves enclosed by magnets 2023年06月
• Spatial structures of rf ring-shaped magnetized sputtering plasmas with two facing cylindrical ZnO/Al2O3 targets 2023年04月
• 佐賀大学理工学部電気電子工学部門プラズマエレクトロニクス研究室紹介 2022年12月
• Spatial structures of rf ring-shaped magnetized sputtering plasma with two facing cylindrical ZnO/ Al2O3 targets 2022年11月
• Characteristics of Novel Rotational Magnetron Sputtering Plasma Sources with Various Magnet Arrangements for Target Utilization Saving Resources 2022年10月
• Temporal evolution of the ion flux to the target in rotational RF multi-magnetron plasma 2022年08月
• Development of a cruciform radio-frequency closed magnetron sputtering source including four sectorial magnetron sputtering discharges for uniform target utilization 2022年08月
• Spatial profile of Al-ZnO thin film on polycarbonate deposited by ring-shaped magnetized rf plasma sputtering with two facing cylindrical Al_2O_3 - ZnO targets 2022年04月
• Properties of AZO thin films prepared by stationary and rotating RF magnetized plasma sputtering source 2022年01月
• Preparation of water-repellent film on a plastic plate by unbalanced radio-frequency magnetron plasma sputtering using PTFE target for a next-generation automobile window 2021年10月
• Characteristics of a radio frequency magnetized double-ring-shaped hollow cathode plasma source with permanent magnets for high-density hydrogen plasma generation 2021年08月
• Development of rotational maze-shaped RF magnetron plasma for successful target utilization and the thin film preparation 2021年01月
• Characteristics of a rotational windmill-shaped radio frequency magnetron sputtering plasma for effective target utilization 2020年11月
• Production of double ring-shaped magnetized radio-frequency hydrogen high-density plasma 2019年11月
• Development of Novel RF Sputtering Plasma Source and Preparation of Al-Doped ZnO Thin Films for Transparent Conductive Oxide Applications 2019年09月
• Spatial structure of radio-frequency capacitive discharge plasma with ring-shaped hollow electrode using Ar and O2 mixture gases 2019年08月
• Treatment of a polycarbonate plate for a next-generation vehicle window by radio frequency magnetron plasma sputtering using a PVDF target 2019年06月
• Observation of ring–shaped pulsed DC discharge plasma source using single pole magnet setups for material processing 2019年06月
• Outer Ring-Shaped Radio Frequency Magnetized Plasma Source for Target Utilization in Specific Area 2018年08月
• Atmospheric-pressure plasma jet system for silicon etching without fluorocarbon gas feed 2018年01月
• RF magnetized ring-shaped plasma for target utilization obtained with circular magnet monopole arrangement 2018年01月
• プラズマ表面改質により作製した機能性超撥水性膜 2017年12月
• Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization 2017年11月
• Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing 2017年09月
• Spatial structure of radio frequency ring-shaped magnetized discharge sputtering plasma using two facing ZnO/Al2O3 cylindrical targets for Al-doped ZnO thin film preparation 2017年05月
• Plasma characteristics and target erosion profile of racetrack-shaped RF magnetron plasma with weak rubber magnets for full circular target utilization 2016年11月
• プラズマ処理装置 2016年11月
• High-density radio-frequency magnetized plasma sputtering source with rotational square-shaped arrangement of rod magnets for uniform target utilization 2016年04月
• Capacitive radio frequency discharges with a single ring-shaped narrow trench of various depths to enhance the plasma density and lateral uniformity 2016年03月
• Sustaining mechanism and spatial structure of high-density ring-shaped hollow cuspate magnetized rf plasma for low-pressure plasma processing 2015年05月
• Radio-frequency magnetized ring-shaped hollow cathode discharge plasma for low-pressure plasma processing 2014年03月
• Production of High-Density Radio Frequency Plasma Source by Ring-Shaped Hollow-Cathode Discharge at Various Trench-Shapes 2013年08月
• Production of High-Density RF Plasma Using Ring-Shaped Hollow Cathode for Material Processing 2013年06月
• Criteria of radio-frequency ring-shaped hollow cathode discharge using H2 and Ar gases for plasma processing 2013年01月
• High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing 2011年10月
• Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing 2011年04月
• Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films 2011年04月
• Development of high-density radio frequency plasma source with a ring-shaped trench hollow electrode for dry processing 2010年08月
• Influence of Xe Gas Concentration on Plasma Parameters and Luminance Characteristics in Fluorescent Lamps driven by an Inductively Coupled Radio Frequency Discharge Using Ne / Xe Mixture Gases 2010年06月
• プラズマコーティングによる撥水性薄膜合成とその応用 2010年01月
• Production of capacitively coupled atmospheric plasma jet with multiring-electrodes for the medical plasma tool 2009年11月
• Two-Dimensional Spatial Structure of Inductively Coupled Plasma with One Internal Loop Antenna 2009年10月
• Production of high-density capacitively coupled plasma with RF multi-hollow cathode and/or high secondary electron emission for DLC film preparation 2009年10月
• Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing 2009年09月
• Improvement of a dual frequency sputtering device for higher deposition rates of protective zirconium oxide films on ceramics 2009年07月
• Preparation of water-repellent thin film by RF pulse-modulated plasma CVD using C_2H_2F_2 gas 2008年09月
• Production of high-density capacitive plasma by the effects of multi-hollow cathode discharge and high-secondary-electron-emissio 2008年04月
• 第５章　薄膜製造における最近のトピックス、第１節「スハ゜ッタリンク゛におけるハ゜ーティクル発生機構とその抑制」 2007年
• Spatial Behavior of the Plasma Potential in a Magnetized Radio-Frequency Discharge from Emissive Probe Data 2007年
• Ultra-Water Repellency of Films Prepared by Capacitively Coupled C2H2F2/Ar Discharge Plasma 2007年
• Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition 2007年
• Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering 2007年
• Ar/O2 gas pressure dependences of a pulsed zirconium arc and extracted ion characteristics 2007年
• Preparation of water-repellent film by RF plasma CVD using C2H2F2 gas 2007年
• Current-free double-layer formation in inductively coupled plasma in a uniform magnetic field 2006年
• Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge 2006年
• Ar/O2 gas pressure dependence of atomic concentration of zirconia prepared by zirconium pulse arc PBII& D 2006年
• Preparation of zirconium oxide thin film using inductively coupled oxygen plasma sputtering 2005年
• Energy Distribution of Ions Incident onto a Dc-Biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Sputtering Plasma for SrTiO~3 Thin Film Preparation 2004年
• Influences of gap distance on plasma characteristics in narrow gap capacitively coupled radio-frequency discharge 2004年
• Measurement of ion temperature in magnetized inductively coupled plasma with external helical antenna 2004年
• Production of high-density capacitively coupled radio-frequency discharge plasma by high-secondary-electron-emission oxide 2004年
• Optimization of oxide material electrode for high-density plasma production in capacitively coupled RF discharge 2004年
• Time-Averaged Energy Distribution Function of Ions Impacted on an RF-biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma 2003年
• Annular profile of dust density near RF powered electrode in a capacitively coupled plasma 2002年04月

著書

• Characteristics of Novel Rotational Magnetron Sputtering Plasma Sources with Various Magnet Arrangements for Target Utilization Saving Resources;　2022年10月
  発表情報;　Advances in Materials Science Research, edited by M.C. Wythers, Nova Science Publishers, New York, 2022, 56, Chapter 5, 243-272
  著者;　Y.Ohtsu, M. Amzad Hossain and J. Schulze
  
• 第２章　第5節　 スパッタ法による超撥水性薄膜合成と最新の研究動向;　2021年03月
  発表情報;　超撥水・超撥油・滑液性表面の技術（第2巻）～実用的な超撥液表面の実現を目指して～ ～高耐久、簡便・高生産性、液滴除去性など機能的な表面処理技術の最前線～ サイエンス＆テクノロジーM071(製本版）, EB038a（電子版）
  著者;　大津康徳
  
• Development of Novel RF Sputtering Plasma Source and Preparation of Al-Doped ZnO Thin Films for Transparent Conductive Oxide Applications;　2019年09月
  発表情報;　ZnO Thin Films: Properties, Performance and Applications, Chapter 6, NOVA Science Publishers, editor Paolo Mele, 193-208
  著者;　Yasunori Ohtsu and Takashi Sumiyama
  
• Physics of High-Density Radio Frequency Capacitively Coupled Plasma with Various Electrodes and Its Applications;　2019年02月
  発表情報;　Plasma Science and Technology - Basic Fundamentals and Modern Applications, IntechOpen, Chapter 11, 2019
  著者;　Yasunori Ohtsu
  
• 第2章「超撥水性表面を形成する材料と表面処理技術」第7節「プラズマCVD法による超撥水性薄膜合成」;　2016年01月
  発表情報;　「超撥水・超撥油・滑液性表面の技術」サイエンス＆テクノロジーM026, 91-96
  著者;　大津康徳
  
• 第4章第2節[5]プラズマコーティングによる基材への凹凸構造形成，撥水膜作製;　2013年07月
  発表情報;　「精密加工と微細構造の形成技術」1720技術情報協会, 547-553
  著者;　大津康徳
  
• Preparation of Zirconium Oxide Thin Film by Plasma Coating Method and its Hydrophobic Nature;　2012年06月
  発表情報;　Zirconium: Characteristics, Technology and Performance, Editors: Lucy M. King and Kathy E. Allen, Nova Science Publishers (2012)Chapter,1, 1-26
  著者;　Y.Ohtsu
  
• 第３章　超撥水・超親水化技術とその制御、第1節　コーティング技術による超撥水・超親水化技術、[９]プラズマコーティングによる超撥水性薄膜の合成技術;　2012年05月
  発表情報;　「エレクトロニクス・エネルギー分野における超撥水・超親水化技術」、株式会社技術情報協会, 118-127
  著者;　大津康徳
  
• 第５章　薄膜製造における最近のトピックス、第１節「スハ゜ッタリンク゛におけるハ゜ーティクル発生機構とその抑制」;　2007年
  発表情報;　「テ゛ィスフ゜レイ・光学部材における薄膜製造技術」、情報機構, 5, 373-379
  著者;　大津康徳
  

原著論文

• Effect of multi-cusp magnetic fields to generate a high-density hydrogen plasma inside a low pressure H_2 cylindrical hollow cathode discharge;　2024年09月
  発表情報;　Vacuum, 227, 113459
  著者;　Md Hasibul Islam, Takeshi Uchida, Julian Schulze and Yasunori Ohtsu
  
• Characteristics of a hybrid radio-frequency capacitively and inductively coupled plasma using hydrogen gas;　2024年07月
  発表情報;　Journal of Vacuum Science and Technlogy B, 42, 4, 044204(8pp)
  著者;　Yasunori Ohtsu, Tatsuo Tabaru and Julian Schulze
  
• Production of a high-density hydrogen plasma in a capacitively coupled RF discharge with a hollow cathode enclosed by magnets;　2024年05月
  発表情報;　J. Vac. Sci. Technol. A, 42, 3, 033011(9pp)
  著者;　Yasunori Ohtsu, Takeshi Uchida, Ryohei Kuno and Julian Schulze
  
• Spatial distributions of the ion flux in a capacitive hydrogen RF discharge using a hollow cathode with double toroidal grooves enclosed by magnets;　2023年06月
  発表情報;　Japanese Journal of Applied Physics, Special Issue: Plasma Processing (ICRP2022), 62, SL, SL1017-1-7
  著者;　Yasunori Ohtsu, Hokuto Hiwatashi and Julian Schulze
  
• Spatial structures of rf ring-shaped magnetized sputtering plasmas with two facing cylindrical ZnO/Al2O3 targets;　2023年04月
  発表情報;　Jpn. J. Appl. Phys., 62, SI1007
  著者;　Yasunori Ohtsu, Kousuke Hara, Shoma Imoto, Julian Schulze, Takeshi Yasunaga and Yasuyuki Ikegami
  
• Temporal evolution of the ion flux to the target in rotational RF multi-magnetron plasma;　2022年08月
  発表情報;　J. Vac. Sci. Technol. A, 40, 5, 053006(9pp)
  著者;　Yasunori Ohtsu, Koya Yasuda, and Julian Schulze
  
• Development of a cruciform radio-frequency closed magnetron sputtering source including four sectorial magnetron sputtering discharges for uniform target utilization;　2022年08月
  発表情報;　Vacuum 202(2022)111184(7pp)
  著者;　Koya Yasuda, Yasunori Ohtsu and Julian Schulze
  
• Spatial profile of Al-ZnO thin film on polycarbonate deposited by ring-shaped magnetized rf plasma sputtering with two facing cylindrical Al_2O_3 - ZnO targets;　2022年04月
  発表情報;　Japanese Journal of Applied Physics, 61, SI, pp.SI1005(2022)
  著者;　Yasunori OHTSU, Godai Sakata, Julian Schulze, Takeshi Yasunaga and Yasuyuki Ikegami
  
• Properties of AZO thin films prepared by stationary and rotating RF magnetized plasma sputtering source;　2022年01月
  発表情報;　AIP Advances, 12, 1, 015224-1-9
  著者;　Md. Amzad Hossain, Md. Abdul Majed Patwary, Md. Mustafizur Rahman, Yasunori Ohtsu
  
• Preparation of water-repellent film on a plastic plate by unbalanced radio-frequency magnetron plasma sputtering using PTFE target for a next-generation automobile window;　2021年10月
  発表情報;　Plasma Chemistry and Plasma Processing, 41, pp.1631-1646 (2021), 41, 6, 1631-1646
  著者;　Yasunori Ohtsu, Yuta Ino, Yuki Fujio, Tatsuo Tabaru, Takeshi Yasunaga and Yasuyuki Ikegami
  
• Characteristics of a radio frequency magnetized double-ring-shaped hollow cathode plasma source with permanent magnets for high-density hydrogen plasma generation;　2021年08月
  発表情報;　Vacuum, 193, 110531-1-9
  著者;　Yasunori Ohtsu, Shoma Imoto, Shunya Takemura, Julian Schulze
  
• Development of rotational maze-shaped RF magnetron plasma for successful target utilization and the thin film preparation;　2021年01月
  発表情報;　Japanese Journal of Applied Physics, Special Issue: Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials, 60, SA, SAAB01-1-7
  著者;　Yasunori Ohtsu, Rei Tanaka and Takahiro Nakashima
  
• Characteristics of a rotational windmill-shaped radio frequency magnetron sputtering plasma for effective target utilization;　2020年11月
  発表情報;　Vacuum, In progress (November 2020), 181, 109593-1-10
  著者;　Yasunori Ohtsu, Takahiro Nakashima, Rei Tanaka and Julian Schulze
  
• Spatial structure of radio-frequency capacitive discharge plasma with ring-shaped hollow electrode using Ar and O2 mixture gases;　2019年08月
  発表情報;　Journal of Physics D: Applied Physics, 52, 35, 355202-1-7
  著者;　Yasunori Ohtsu, Masaya Takasaki and Julian Schulze
  
• Treatment of a polycarbonate plate for a next-generation vehicle window by radio frequency magnetron plasma sputtering using a PVDF target;　2019年06月
  発表情報;　Japanese Journal of Applied Physics, 58, SE, SEED03-1-6
  著者;　Yasunori Ohtsu , Yusuke Takada, Kosei Sugawara, Yuki Fujio, and Tatsuo Tabaru
  
• Observation of ring–shaped pulsed DC discharge plasma source using single pole magnet setups for material processing;　2019年06月
  発表情報;　Radiation Effects and Defects in Solids Incorporating Plasma Science and Plasma Technology, 174, 5-6, 380-396
  著者;　Md. Amzad Hossain, M. A. Majed Patwary, M. M. Rahman Bhuiyan, Yutaro Nakamura, Kosei Sugawara and Yasunori Ohtsu
  
• Outer Ring-Shaped Radio Frequency Magnetized Plasma Source for Target Utilization in Specific Area;　2018年08月
  発表情報;　IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE, 46, 8, 2894-2900
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• Atmospheric-pressure plasma jet system for silicon etching without fluorocarbon gas feed;　2018年01月
  発表情報;　Japanese Journal of Applied Physics, (2018), 57, 1, 01AB01-1-4
  著者;　Yasunori Ohtsu and Kenta Nagamatsu
  
• RF magnetized ring-shaped plasma for target utilization obtained with circular magnet monopole arrangement;　2018年01月
  発表情報;　Japanese Journal of Applied Physics, 57, 01AA05(7pp)
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization;　2017年11月
  発表情報;　Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 35, 061312(6pp)
  著者;　Tsubasa Ide, Md. Amzad Hossain, Yutaro Nakamura and Yasunori Ohtsu
  
• Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing;　2017年09月
  発表情報;　Plasma Chem Plasma Process,(2017)., 37, 6, 1663-1677
  著者;　Md. Amzad Hossain, Yasunori Ohtsu and Tatsuo Tabaru
  
• Spatial structure of radio frequency ring-shaped magnetized discharge sputtering plasma using two facing ZnO/Al2O3 cylindrical targets for Al-doped ZnO thin film preparation;　2017年05月
  発表情報;　AIP Advances, 7, 055310(8pp)
  著者;　Takashi Sumiyama, Takaya Fukumoto, Yasunori Ohtsu, and Tatsuo Tabaru
  
• Plasma characteristics and target erosion profile of racetrack-shaped RF magnetron plasma with weak rubber magnets for full circular target utilization;　2016年11月
  発表情報;　Surface & Coatings Technology, 307, pp.1134-1138
  著者;　Yasunori Ohtsu, Shohei Tsuruta, Tatsuo Tabaru, Morito Akiyama
  
• High-density radio-frequency magnetized plasma sputtering source with rotational square-shaped arrangement of rod magnets for uniform target utilization;　2016年04月
  発表情報;　Vacuum, 128, 219-225
  著者;　Md. Amzad Hossain, T. Ide, K. Ikari, Y. Ohtsu
  
• Capacitive radio frequency discharges with a single ring-shaped narrow trench of various depths to enhance the plasma density and lateral uniformity;　2016年03月
  発表情報;　PHYSICS OF PLASMAS, 23, 3, 033510(7pp)
  著者;　Y. Ohtsu, N. Matsumoto, J. Schulze and E. Schuengel
  
• Sustaining mechanism and spatial structure of high-density ring-shaped hollow cuspate magnetized rf plasma for low-pressure plasma processing;　2015年05月
  発表情報;　Plasma Sources Science and Technology, Special Issue on Electron heating in technological plasmas, 24, 3, 034005(9pp)
  著者;　Y.Ohtsu and T. Yanagise
  
• Observation of radio frequency ring-shaped hollow cathode discharge plasma with MgO and Al electrodes for plasma processing;　2014年08月
  発表情報;　Journal of Vacuum Science and Technology A, 32, 3, 031304-1-031304-6
  著者;　Y. Ohtsu, N. Matsumoto
  
• Production of radio frequency magnetron plasma by monopole arrangement of magnets for target uniform utilization;　2014年04月
  発表情報;　Vacuum, 101, 403-407
  著者;　Y. Ohtsu, M. Shigyo, M. Akiyama and T. Tabaru
  
• Radio-frequency magnetized ring-shaped hollow cathode discharge plasma for low-pressure plasma processing;　2014年03月
  発表情報;　Vacuum, 101, 46-52
  著者;　Y.Ohtsu, J.Eguchi and Y.Yahata
  
• Production of High-Density Radio Frequency Plasma Source by Ring-Shaped Hollow-Cathode Discharge at Various Trench-Shapes;　2013年08月
  発表情報;　IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE, Special Issue on Ion Sources and Their Applications, 41, 8, 1856-1861
  著者;　Y.Ohtsu,Y.Yahata, J.Kagami, Y.Kawashimo and T.Takeuchi
  
• Criteria of radio-frequency ring-shaped hollow cathode discharge using H2 and Ar gases for plasma processing;　2013年01月
  発表情報;　J.Appl.Phys., 113, 3, 033302-1-033302-5
  著者;　Y.Ohtsu and Y.Kawasaki
  
• Production of Low Electron Temperature Plasma and Coating of Carbon-Related Water Repellent Films on Plastic Plate;　2012年07月
  発表情報;　IEEE Trans. Plasma Science., Special Issue on Carbon-Related Materials Processing by Plasma Technologies,, 40, 7, 1809-1814
  著者;　Y.Ohtsu and K.Kihara
  
• A comparison of microwave irradiation, electric, and hybrid heating for medical plastic-waste treatment;　2011年06月
  発表情報;　Journal of Renewable and Sustainable Energy, 3, 3, 033106-1-033106-7
  著者;　Y.Ohtsu, K.Onoda, H.Kawashita and H.Urasaki
  
• Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing;　2011年04月
  発表情報;　Trans. Mater. Res. Soc. Jpn, 36, 1, 95-98
  著者;　Y.Ohtsu, N.Wada, T.Misawa
  
• Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films;　2011年04月
  発表情報;　Trans. Mater. Res. Soc. Jpn,, 36, 1, 99-102
  著者;　Y.Ohtsu, K.Hino, T.Misawa, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• A simple hollow-probe for monitoring ion-beam energy in processing plasmas;　2010年12月
  発表情報;　Meas. Sci. Technol., 21, 12, 125405-1-125405-5
  著者;　Y.Ohtsu and N.Wakita
  
• Development of high-density radio frequency plasma source with a ring-shaped trench hollow electrode for dry processing;　2010年08月
  発表情報;　Plasma Sources Science and Technology, 19, 4, 045012-1-045012-6
  著者;　Y.Ohtsu and H.Urasaki
  
• Influence of Xe Gas Concentration on Plasma Parameters and Luminance Characteristics in Fluorescent Lamps driven by an Inductively Coupled Radio Frequency Discharge Using Ne / Xe Mixture Gases;　2010年06月
  発表情報;　Journal of Light and Visual Environment, 34, 1, 10-15
  著者;　H.Kashiwazaki, T.Kajiwara, H.Fujita and Y.Ohtsu
  
• Development of novel hybrid microwave-heater reactor for paper-based waste treatment;　2010年04月
  発表情報;　Journal of Material Cycles and Waste Management, 12, 1, 25-29
  著者;　Yasunori Ohtsu, Ryuzo Yamada Hiroshi Urasaki, Tatsuya Misawa, Sebastian Popescu and Hiroharu Fujita
  
• INFLUENCE OF INTERNAL PULSED CURRENT ON THE SINTERING BEHAVIOR OF PULSED CURRENT SINTERING PROCESS;　2010年01月
  発表情報;　Materials Science Forum, 638-642, 2109-2114
  著者;　T. Misawa, N.Shikatani, Y. Kawakami, T. Enjoji and Y. Ohtsu
  
• Production of capacitively coupled atmospheric plasma jet with multiring-electrodes for the medical plasma tool;　2009年11月
  発表情報;　IEEE Trans. Plasma Science, 37, 11, 2221-2227
  著者;　Yasunori Ohtsu and Shigenori Tanaka
  
• Two-Dimensional Spatial Structure of Inductively Coupled Plasma with One Internal Loop Antenna;　2009年10月
  発表情報;　 J. Plasma Fusion Res. SERIES, 8, 1291-1294
  著者;　Y.Ohtsu, K.Aramaki and H.Fujita
  
• Production of high-density capacitively coupled plasma with RF multi-hollow cathode and/or high secondary electron emission for DLC film preparation;　2009年10月
  発表情報;　Plasma Process and Polymer, 6, S1, S458-S461
  著者;　Yasunori Ohtsu, Chisa Nakamura, Tatsuya Misawa, Hiroharu Fujita, Morito Akiyama and Ken Yukimura
  
• Improvement of a dual frequency sputtering device for higher deposition rates of protective zirconium oxide films on ceramics;　2009年07月
  発表情報;　Vacuum, 83, 1364-1367
  著者;　Yasunori Ohtsu, Yuzuru Hino, Hiroharu Fujita, Morito Akiyama, Ken Yukimura
  
• Observation of internal pulsed current flow through the ZnO specimen in the spark plasma sintering method;　2009年03月
  発表情報;　Journal of Materials Science, 44, 1641-1651
  著者;　T.Misawa, N.Shikatani, Y.Kawakami, T. Enjoji, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Preparation of water-repellent thin film by RF pulse-modulated plasma CVD using C_2H_2F_2 gas;　2008年09月
  発表情報;　 Surf. Coat. Technol., 202, 5367-5369
  著者;　Y. Ohtsu, Y.Masuda, S.Yazaki, T.Misawa and H. Fujita
  
• Competing inactivation agents of bacteria spores in radio-frequency oxygen plasma;　2008年06月
  発表情報;　Plasma Processes & Polymers, 5, 4, 350-358
  著者;　D.VICOVEANU, S.POPESCU, Y.OHTSU, and H.FUJITA
  
• Production of high-density capacitive plasma by the effects of multi-hollow cathode discharge and high-secondary-electron-emissio;　2008年04月
  発表情報;　Applied Physic Letters, 92, 17, 171501-1-171501-3
  著者;　Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Pulsed Discharge Effects on Bacteria Inactivation in Low-Pressure Radio-Frequency Oxygen Plasma;　2008年02月
  発表情報;　Jpn. J. Appl. Phys., 47, 2, 1130-1135
  著者;　 Dragos VICOVEANU, Yasunori OHTSU, and Hiroharu FUJITA
  
• ＰＣＳ法により作製したＺｎＯ－ＴｉＯ２－ＣｏＯ－Ａｌ２Ｏ３系熱電材料の抵抗温度特性;　2008年01月
  発表情報;　粉体および粉末冶金, 55, 1, 10-16
  著者;　鹿谷昇，三沢達也，大津康徳，藤田寛治，川上雄士，円城寺隆志、
  
• Mirocstructure and Sintering Behavior of ZnO Thermoelectric Materials Prepared by the Pulse-Current –Sintering Method;　2007年10月
  発表情報;　, 534-536, 1541-1544
  著者;　Noboru Shikatani, Tatsuya Misawa, Yasunori Ohtsu, Hiroharu Fujita, Yuji Kawakami, Takashi Enjoji
  
• ＰＣＳ法により作製したＺｎＯ－ＴｉＯ２－ＣｏＯ－Ａｌ２Ｏ３セラミックスの熱電特性と微細構造;　2007年01月
  発表情報;　粉体および粉末冶金, 54, 1, 1541-1544
  著者;　鹿谷昇，三沢達也，大津康徳，藤田寛治，川上雄士，円城寺隆志
  
• Langmuir probe data analysis for a magnetized inductive radio-frequency discharge;　2007年
  発表情報;　J.Appl.Phys., 102, 093022-1-093302-7
  著者;　 Sebastian POPESCU, Yasunori OHTSU, and Hiroharu FUJITA,
  
• Spatial Behavior of the Plasma Potential in a Magnetized Radio-Frequency Discharge from Emissive Probe Data;　2007年
  発表情報;　Journal of the Physical Society of Japan, 76, 9, 094501-1-094501-4
  著者;　Sebastian POPESCU, Yasunori OHTSU, and Hiroharu FUJITA
  
• Ultra-Water Repellency of Films Prepared by Capacitively Coupled C2H2F2/Ar Discharge Plasma;　2007年
  発表情報;　Jpn. J. Appl. Phys., 46, 27, L679-L681
  著者;　Yasunori.Ohtsu, NobuhisaYamagami and Hiroharu Fujita
  
• Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition;　2007年
  発表情報;　Surf. Coat. Tehcnol., 201, 6674-6677
  著者;　Y.Ohtsu, H.Noda, C.Nakamura, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and C.Diplasu
  
• Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering;　2007年
  発表情報;　Surf. Coat. Technol., 201, 6627-6630
  著者;　Y.Ohtsu,Y.Hino, H.Fujita, K.Yukimura and M.Akiyama
  
• Ar/O2 gas pressure dependences of a pulsed zirconium arc and extracted ion characteristics;　2007年
  発表情報;　Surf. Coat. Technol., 201, 6550-6552
  著者;　Ken Yukimura, Hiroyuki Ono, Shuhei Akashi, Xinxin Ma, Yasunori Ohtsu, Hiroharu Fujita and Keiji Nakamura
  
• パルス電流焼結法を用いた酸化亜鉛系セラミックスの焼結に対する試料内部電流の影響;　2006年10月
  発表情報;　粉体および粉末冶金, 53, 10, 830-835
  著者;　三沢達也、鹿谷　昇、川上雄士、円城寺隆志、大津康徳、藤田寛治
  
• Current-free double-layer formation in inductively coupled plasma in a uniform magnetic field;　2006年
  発表情報;　Phys. Rev. E, 73, 066406-1-066405-8
  著者;　"S. Popescu, Y. Ohtsu, and H. Fujita"
  
• Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge;　2006年
  発表情報;　Thin Solid Films, 506-507, 545-549
  著者;　"Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita"
  
• Ar/O2 gas pressure dependence of atomic concentration of zirconia prepared by zirconium pulse arc PBII& D;　2006年
  発表情報;　"Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B", 242, 318-320
  著者;　"K.Yukimura, H.Yoshinaga, Y.Ohtsu, H.Fujita, K.Nakamura and X.Ma"
  
• Preparation of zirconium oxide thin film using inductively coupled oxygen plasma sputtering;　2005年
  発表情報;　SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, 196, 1/3, 81-84
  著者;　Ohtsu, Y / Egami, M / Fujita, H / Yukimura, K
  
• Energy Distribution of Ions Incident onto a Dc-Biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Sputtering Plasma for SrTiO~3 Thin Film Preparation;　2004年
  発表情報;　JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS, 43, 1, 328-331
  著者;　Ohtsu, Y / Fujita, H / Niino, A / Matsumoto, T / Miyake, S
  
• Energy distribution functions of ions impinging on substrate in microwave plasma;　2004年
  発表情報;　JOURNAL OF PHYSICS -D- APPLIED PHYSICS, 37, 3, 438-444
  著者;　Mesko, M / Cicman, P / Ohtsu, Y / Fujita, H / Kudrle, V
  
• Influences of gap distance on plasma characteristics in narrow gap capacitively coupled radio-frequency discharge;　2004年
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys.,, 43, 2, 795-799
  著者;　Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Influence of Substrate Biasing on (Ba,Sr)TiO~3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering;　2004年
  発表情報;　JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS, 43, 3, 1144-1148
  著者;　Matsumoto, T / Niino, A / Ohtsu, Y / Misawa, T / Yonesu, A / Fujita, H / Miyake, S
  
• High ozone generation with a high-dielectric constant material;　2004年
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys.,, 43, 7, 4368-4372
  著者;　M.Toyofuku (D 3), Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Measurement of ion temperature in magnetized inductively coupled plasma with external helical antenna;　2004年
  発表情報;　PHYSICS LETTERS A, 327, 4, 327-331
  著者;　Mihaila, I / Ohtsu, Y / Fujita, H
  
• Production of high-density capacitively coupled radio-frequency discharge plasma by high-secondary-electron-emission oxide;　2004年
  発表情報;　APPLIED PHYSICS LETTERS, 85, 21, 4875-4877
  著者;　Ohtsu, Y / Fujita, H
  
• Time-Averaged Energy Distribution Function of Ions Impacted on an RF-biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma;　2003年
  発表情報;　JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS, 42, 12, 7552-7556
  著者;　Ohtsu, Y / Yoshinaga, K / Fujita, H
  
• Annular profile of dust density near RF powered electrode in a capacitively coupled plasma;　2002年04月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 41, 4, 2195-2198
  著者;　Y.Ohtsu and H.Fujita,
  
• 無電極放電プラズマにおける蛍光体発光輝度と発光色に与える電子エネルギーの影響;　2001年05月
  発表情報;　照明学会論文誌, 85, 5, 332-337
  著者;　柏崎英徳、大津康徳、藤田寛治
  
• パルス変調高周波放電における蛍光体発光色の観測;　2000年05月
  発表情報;　照明学会論文誌, 84, 5, 124-127
  著者;　柏崎英徳、大津康徳、藤田寛治
  
• 高周波アフターグロープラズマにおける電子密度の増加機構;　2000年01月
  発表情報;　電気学会論文誌Ａ, 120, 1, 31-36
  著者;　大津康徳、清水公司、藤田寛治
  
• Energy distribution functions of ions impacted on a negatively biased substrate in an electron cyclotron resonance microwave plasma;　1999年07月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 38, 7, 4393-4396
  著者;　Y.Ohtsu, K.Mori and H.Fujita
  
• 容量結合型高周波プラズマ中の電子エネルギー分布関数とイオン衝撃２次電子の観測;　1999年06月
  発表情報;　電気学会論文誌Ａ, 119, 6, 866-871
  著者;　大津康徳、藤田寛治
  
• A new sputtering device of radio-frequency magnetron discharge using a rectangular hollow-shaped electrode;　1998年04月
  発表情報;　Rev. Sci.Instrum., 69, 4, 1833-1836
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Tsurume and H.Fujita,
  
• Measurement of ion energy distribution functions in an radio frequency plasma excited with an m=0 mode helical antenna and thin film preparation;　1997年07月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 36, 7, 4620-4624
  著者;　Y.Ohtsu, G.Tochitani, H.Fujita, J.Zhang, Y.Setsuhara and H.Fujita
  
• Potential oscillations in an electronegative plasma driven by an asymmetry RF discharge;　1997年07月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 36, 7, 4722-4727
  著者;　M.M.Nasser, Y.Ohtsu, G.Tochitani and H.Fujita
  
• Ion collection by a hollow probe in ECR microwave plasma under a divergent magnetic field;　1997年05月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 36, 5, 2894-2895
  著者;　Y.Ohtsu, K.Kinoshita and H.Fujita
  
• Temporal evolution of charged particles in a radio frequency afterglow plasma containing negative ions;　1996年08月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 35, 8, 4494-4497
  著者;　Y.Ohtsu, T.Seki and H.Fujita
  
• Spatial structure of electrons and fluorine atoms in a CF4 RF magnetron plasma;　1996年05月
  発表情報;　Plasma Sources Sci Technol., 5, 5, 344-348
  著者;　Y.Ohtsu, H.Matsuo and H.Fujita
  
• Potential structure in asymmetrical radio frequency discharges containing negative ions “;　1994年09月
  発表情報;　Phys.Lett. A, 193, 9, 94-96
  著者;　Y.Okuno, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• CF3, CF2 and CF radical measurements in RF CHF3 etching plasma using infrared diode laser absorption spectroscopy;　1994年07月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 33, 7, 4298-4302
  著者;　K.Maruyama. K.Ohkouchi, Y.Ohtsu and T.Goto
  
• Effect of downstream magnetic field collimation on ion behavior in electron cyclotron resonance microwave plasma;　1994年06月
  発表情報;　 IEEE Trans. Plasma Sci., 22, 6, 253-259
  著者;　Y.Okuno, Y.Ohtsu and H.Fujita,
  
• Electron acceleration resonant with sheath motion in a low-pressure radio frequency discharge;　1994年03月
  発表情報;　Appl.Phys.Lett., 64, 3, 1623-1625
  著者;　 Y.Okuno, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Two-dimensional ion velocity distribution functions in electron cyclotron resonance plasma under a divergent magnetic field;　1993年11月
  発表情報;　J.Appl.Phys.,, 74, 11, 5990-5996
  著者;　Y.Okuno, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Measurement of ion temperature in electron cyclotron resonance plasma;　1993年11月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys, 32, 11, L1698-L1700
  著者;　Y.Okuno, Y.Ohtsu, H.Fujita, W.Chen, S.Miyake
  
• Effect of RF-biased electrode on microwave plasma;　1993年06月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys., 32, 6, 2873-2877
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Okuno and H.Fujita
  
• Observation of radio-frequency discharges at various frequencies;　1993年03月
  発表情報;　J.Appl.Phys., 73, 3, 2155-2159
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Okuno and H.Fujita
  
• Measurement of electron energy distribution function in an asymmetric radio frequency discharge plasma;　1993年02月
  発表情報;　J.Appl.Phys., 73, 2, 1612-1616
  著者;　Y.Okuno, Y.Ohtsu, C.Komatsu and H.Fujita
  
• Measurement of electron energy distribution function in a low pressure rf discharge plasma;　1992年05月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys,, 31, 5, 1503-1504
  著者;　S.Yagura, Y.Okuno, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Modulation of electron velocity distribution function by moving cathode sheath in a low pressure rf discharge;　1992年04月
  発表情報;　Jpn.J.Appl.Phys, 31, 4, 1194-1198
  著者;　Y.Okuno, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Control of plasma parameters and electric fields in a microwave-rf hybrid plasma;　1991年05月
  発表情報;　J.Appl.Phys, 67, 5, 6114-6117
  著者;　藤田寛治、奥野喜裕、大津康徳、矢倉信也
  

資料・解説・論説・研究報告・総合雑誌の論文

• プラズマ表面改質により作製した機能性超撥水性膜;　2017年12月
  発表情報;　加工技術, 52, 12, 647-655
  著者;　大津康徳
  
• 機能性薄膜材料ターゲット有効利用のためのスパッタプラズマ装置の開発;　2015年03月
  発表情報;　第19回「連携大学院方式」共同研究報告書、ｐ１．(2015年3月)
  著者;　井手翼、大津康徳、田原竜夫、秋山守人
  
• 機能性薄膜材料ターゲット有効利用のための磁化プラズマ装置の開発;　2014年03月
  発表情報;　第18回「連携大学院方式」共同研究・特定プロジェクト研究報告書（第16回連携大学院・産学官交流セミナー要旨集）「ナノ材料の新規特性と開発」, 11-15
  著者;　大津康徳、執行正和、秋山守人、田原竜夫
  
• シリーズ研究室紹介「佐賀大学大学院工学系研究科電気電子工学専攻　研究グループB　プラズマエレクトロニクス研究室」;　2012年02月
  発表情報;　クリーンテクノロジー　, 22, 2, 71-73
  著者;　大津康徳
  
• 高周波スパッタリングによりAlN薄膜合成;　2011年03月
  発表情報;　第１５回「連携大学院方式」共同研究・特定プロジェクト研究報告書 ナノ材料の新規特性と開発, 15-16
  著者;　田中茂徳、三沢達也、大津康徳、秋山守人
  
• 第１４回「連携大学院方式」共同研究・特定プロジェクト研究報告書（第１２回連携大学院産学官交流セミナー要旨集）「ナノ材料の新規特性と開発」;　2010年03月
  発表情報;　
  著者;　佐賀大学大学院工学系研究科連携大学院運営委員会、渡、大津、他
  
• プラズマコーティングによる撥水性薄膜合成とその応用;　2010年01月
  発表情報;　電気学会論文誌Ａ特集解説, 130, 1, 6-9
  著者;　大津康徳
  
• 「次世代大型低消費電力プラズマディスプレイ基盤技術開発」中間評価報告書;　2009年10月
  発表情報;　（独）新エネルギー・産業技術総合開発機構研究評価委員会
  著者;　内田龍男、櫻井　彪、大津康徳、志賀智一、橘　邦英、中村　昇、濱本賢一
  
• メタルスパッタリングプラズマの高度化とその最新動向ーハードコーティングー;　2009年07月
  発表情報;　電気学会技術報告第１１６２号 メタルスパッタプラズマの高度化調査専門委員会編「メタルスパッタリングプラズマの高度化最新動向」, 1162, 46-49
  著者;　大津康徳
  
• ＬＳＩを高品質で安定に量産するための半導体製造装置の開発を目指した部材および構成機器に関する調査研究;　2009年03月
  発表情報;　九州イノベーション創出促進協議会平成２０年度広域連携事業報告書, 1-39
  著者;　矢野嘉昭、上杉文彦、八坂三夫、浅野種正、大津康徳、伊藤奈津子、山口信介、常田昌広
  
• 高周波スパッタ中の炭素微粒子の発生と成長過程;　2008年04月
  発表情報;　真空、, 51, 4, 254-257
  著者;　大津康徳、藤田寛治
  
• 大気圧プラズマによる微生物担体セラミックスの再利用;　2008年03月
  発表情報;　文部科学省　安全・安心科学技術プロジェクト委託事業成果報告書 平成１９年度科学技術試験研究委託事業 「設置型生物剤検知デバイス実用化に関わる研究(FS)」、研究代表者　奥村　徹
  著者;　大津康徳
  
• 2008リフレッシュ理科教室（九州支部佐賀会場）開催報告“キミは未来の科学者だ！”～光・音・かぜ・・・～;　2008年
  発表情報;　応用物理教育シンポジウム報告論文, 32, 2, 89-91
  著者;　大津康徳、三沢達也、藤崎寿一、藤田寛治
  
• エネルギーの異なるプラズマイオン交互注入による高密着性炭素系硬質膜の合成技術;　2007年03月
  発表情報;　平成１８年度JSTプラザ福岡可能性試験(FS)研究報告書、, 1-10
  著者;　大津康徳
  
• 電子レンジ・携帯電話にみる電磁波体験型科学創造性育成法の開発;　2007年02月
  発表情報;　文科省科研費「特定領域研究」「新世紀型理数科系教育の展開研究」研究項目A02　平成14-18年度研究成果報告書, 359-368
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 高２次電子放出・強誘電体酸化物電極による 高圧気体マイクロプラズマ低エネルギー生成;　2007年
  発表情報;　文部科学省科学研究費補助金「特定領域研究」、「プラズマを用いたミクロ反応場の創成とその応用」、平成１９年度研究成果報告書, 77-86
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 200７年度リフレッシュ理科教室（九州支部佐賀会場）開催報告「キミは未来の科学者だ！エネルキ゛ーをつくる、エネルキ゛ーをつかう」;　2007年
  発表情報;　応用物理教育, 31, 2, 127-129
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 200６年度リフレッシュ理科教室（九州支部佐賀会場）開催報告「キミは未来の科学者だ！通信の科学」;　2006年
  発表情報;　応用物理教育, 30, 2, 89-92
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 高２次電子放出・強誘電体酸化物電極による 高圧気体マイクロプラズマ低エネルギー生成;　2006年
  発表情報;　文部科学省科学研究費補助金「特定領域研究」、「プラズマを用いたミクロ反応場の創成とその応用」、平成１８年度研究成果報告書, 77-86
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 高周波スパッタによる炭素微粒子合成と成長過程;　2006年
  発表情報;　"日本真空協会スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会（SP部会） 第102回定例研究会資料 ", 22, 1, 19-28
  著者;　大津康徳、藤田寛治
  
• 生徒体験型オーロラ実験に関する教材開発;　2005年
  発表情報;　文部科学省科学研究費補助金「特定領域研究」、「新世紀型理数科系教育の展開研究」研究項目A02、平成１５・16年度研究成果報告書、(2005.3), 189-198
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 2005年度リフレッシュ理科教室（九州支部佐賀会場）開催報告「キミは未来の科学者だ！～サイエンスマジック～」;　2005年
  発表情報;　応用物理教育, 29, 2, 43-46
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 2003年度リフレッシュ理科教室報告：「佐賀でのリフレッシュ理科教室ー身近なもので理科を楽しもうー」;　2004年
  発表情報;　応用物理, 73, 5, 654-655
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 2004年度リフレッシュ理科教室（九州支部佐賀会場）開催報告;　2004年
  発表情報;　応用物理教育, 28, 2, 33-35
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 誘導結合型高周波スパッタリングによる酸化ジルコニウム薄膜合成;　2004年
  発表情報;　2003年度大阪大学接合科学研究所共同研究報告(2004.10), 24
  著者;　大津康徳
  
• 強誘電体薄膜合成用ECRマイクロ波プラズマにおける基板入射イオンエネルギー分布の計測;　2003年
  発表情報;　2002年度大阪大学接合科学研究所共同研究報告、10
  著者;　大津康徳
  
• Development of Deuterium Negative Ion Sources and its Database Construction;　2003年
  発表情報;　Annual Report of National Institute for Fusion Science, April 2002-March 2003,p223.
  著者;　Fukumasa, O., Naitou, H., Sakiyama, S. Tauchi, Y., Sawada, K., Fujita, H. Ohtsu, Y. Hamabe, M., Takeiri, Y.,
  
• Development of a New Type Pellet Injector with Continuously Variable System of Pellet Size for LHD;　2003年
  発表情報;　Annual Report of National Institute for Fusion Science, April 2002-March 2003,p231.
  著者;　Sato, K.N., Imada, S., Mase, A., Sakakita, H., Fujita, H., Ohtsu, Y., Misawa, T., Sakamoto, R., Yamada, H., Yamazaki, K.
  
• Basic Process of Solid Hydrogen Ablation by Plasma;　2003年
  発表情報;　Annual Report of National Institute for Fusion Science, April 2002-March 2003,p308.
  著者;　 Fujita, H. Ohtsu, Y., Misawa, T., Sato, K.N., Yoshimura, S,
  

一般講演（学術講演を含む）

• フッ素系樹脂ターゲットを用いた高周波マグネトロンプラズマの空間分布;　2024年12月
  発表情報;　セミコンジャパン2024、ブース番号7748, 7748-1
  著者;　久野凌平、大津康徳
  
• 対向AZO円筒型ターゲットを⽤いたリング状ホロー磁化放電スパッタ装置の開発;　2024年12月
  発表情報;　セミコンジャパン2024、ブース番号7748, 7718-2
  著者;　近藤文太、大津康徳
  
• ターゲット有効利用の為の回転型マルチマグネトロンスパッタ装置の開発;　2024年12月
  発表情報;　セミコンジャパン2024、ブース番号7748, 7718-3
  著者;　梅田姫子、大津康徳
  
• 円筒・リング型ハイブリッドホロー電極と磁⽯を⽤いた⾼密度⽔素RFプラズマの⽣成;　2024年12月
  発表情報;　セミコンジャパン2024、ブース番号7748, 7748-4
  著者;　田爪健吾、大津康徳
  
• Impact of like-pole-aligned hybrid MCMF on hydrogen plasma density inside a low-pressure RF driven CCP discharge with a hollow cathode;　2024年11月
  発表情報;　Proceedings of The 45th International Symposium on Dry Process (DPS2024), P-45, 119-120
  著者;　Md. H. Islam and Y. Ohtsu
  
• Production of a hybrid RF capacitively and inductively coupled plasma using CH4 and H mixture gases for preparing carbon nanostructures;　2024年11月
  発表情報;　Proceedings of The 45th International Symposium on Dry Process (DPS2024), P-46, 121-122
  著者;　Y. Ohtsu, T. Tabaru and J. Schulze
  
• 対向円筒ターゲットを用いた高周波リング状磁化プラズマ生成に及ぼす磁石配置の影響;　2024年09月
  発表情報;　第85回応用物理学会秋季学術講演会, 20a-A32-3,07-116
  著者;　近藤 文太、大津 康徳
  
• PFAターゲットを用いた高周波マグネトロンプラズマの空間分布;　2024年09月
  発表情報;　第85回応用物理学会秋季学術講演会, 20a-A32-4,07-117
  著者;　久野 凌平、大津 康徳、安永 健、池上 康之
  
• ターゲット有効利用のための回転型マルチマグネトロンスパッタ装置の開発;　2024年09月
  発表情報;　第85回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-A32-4,07-140
  著者;　梅田 姫子、大津 康徳
  
• 円筒・リング型ハイブリッドホロー電極と磁石を用いた高密度水素RFプラズマの生成;　2024年09月
  発表情報;　第85回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-A32-5,07-141
  著者;　田爪 健悟、大津 康徳
  
• Enhancement of high-density hydrogen-plasma production using cylindrical-shaped hollow cathode at a lower H2 gas pressure by multi-cusp magnetic fields;　2024年03月
  発表情報;　2024年第71回応用物理学会春季学術講演会22p-12G-12
  著者;　Md Hasibul Islam, Takeshi Uchida and Yasunori Ohtsu
  
• Characteristics of RF hybrid-plasma using hydrogen gas;　2024年03月
  発表情報;　Proc. ISPlasma2024//IC-PLANTS2024/APSPT-13, Nagoya Univ. 2024.3.5
  著者;　Yasunori Ohtsu, Tatsuo Tabaru and Julian Schulze
  
• Production of high-density hydrogen plasma by RF magnetized hollow cathode discharge with magnet;　2023年11月
  発表情報;　Proc. 44th International Symposium on Dry Process (DPS2023), Nagoya, Nov.21-22,, 44, 107-108 (P-32)
  著者;　Y. Ohtsu, T. Uchida, R. Kuno and J. Schulze
  
• Production of radio-frequency hybrid-discharge plasma using hydrogen gas for thin film preparation;　2023年10月
  発表情報;　Bulletin of the American Physical Society, 76th Annual Gaseous Electronics Conference, IT4.36
  著者;　Yasunori Otsu and Tatsuo Tabaru
  
• 小型マグネトロンプラズマのアレー状配置型高周波マグネトロンスパッタ源に及ぼす磁石位置の影響;　2023年09月
  発表情報;　第８４回応用物理学会秋季学術講演会, 23p-A301-11
  著者;　升永 龍之介、大津 康徳
  
• 円筒対向ターゲットを用いた高周波リング状ホロー磁化プラズマ生成に及ぼす磁石配置の影響;　2023年09月
  発表情報;　第84回応用物理学会秋季学術講演会, 23p-A301-12
  著者;　近藤文太、大津康徳
  
• フッ素樹脂ターゲットを用いた高周波マグネトロンプラズマの空間分布計測;　2023年09月
  発表情報;　第84回応用物理学会秋季学術講演会, 23p-A301-13
  著者;　久野凌平、大津康徳、安永 健、池上 康之
  
• 永久磁石を用いた高周波磁化ホロー陰極放電による高密度水素プラズマ生成とその空間分布の計測;　2023年09月
  発表情報;　第84回応用物理学会秋季学術講演会, 23p-A301-14
  著者;　内田武志、大津康徳
  
• 高周波ハイブリッド放電による高密度水素プラズマ生成;　2023年03月
  発表情報;　第70回応用物理学会春季学術講演会、上智大学, 15p-PA02-2
  著者;　大津 康徳，田原 竜夫
  
• Spatial structures of rf ring-shaped magnetized sputtering plasma with two facing cylindrical ZnO/ Al2O3 targets;　2022年11月
  発表情報;　Proc. of 43rd International Symposium on Dry process, Osaka, Nov. 24-25, P-18, 71-72
  著者;　Y. Ohtsu, K. Hara, S. Imoto, J. Schulze, T. Yasunaga, Y. Ikegami
  
• Spatial distributions of hydrogen RF discharge plasma using a hollow cathode with double toroidal grooves combined with magnets;　2022年10月
  発表情報;　Proc. 11th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-11), 2022 Gaseous Electronics Conference (GEC 2022), HW6.00042, 231-232
  著者;　Yasunori Ohtsu, Hokuto Hiwatashi and Julian Schulze
  
• 対向円筒型AZOターゲットを用いた高周波リング状ホロー磁化プラズマの空間分布とAZO薄膜合成;　2022年09月
  発表情報;　2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会、20p-A105-5
  著者;　井本将真、大津康徳
  
• ターゲット有効利用のための小型マグネトロンプラズマのアレー状配置型高周波マグネトロンスパッタ源の開発;　2022年09月
  発表情報;　2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会、20p-A105-6
  著者;　升永龍之介、大津康徳
  
• 高密度水素プラズマ生成のための永久磁石を用いた高周波磁化ホロー陰極放電装置の開発;　2022年09月
  発表情報;　2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会、20p-A105-10
  著者;　内田武志、大津康徳
  
• 対向円筒型 AZO ターゲットを用いた高周波リング状ホロー磁化プラズマの空間 分布;　2021年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第 25 回 支部大会,18pB10(2021.12.18)
  著者;　井本将真 , 原光佑, 大津康徳
  
• 小型マグネトロンプラズマを組み合わせた回転型アレー状高周波マグネトロンスパッタプラズマの開発;　2021年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第 25 回 支部大会、18pB09(2021.12.18)
  著者;　安田洸也, 大津康徳
  
• Spatial profile of Al-ZnO thin film on polycarbonate deposited by ring-shaped magnetized rf plasma sputtering with two facing cylindrical Al2O3-ZnO targets;　2021年11月
  発表情報;　42th International Symposium on Dry Process（DPS2021), P-24(2021.11.18)
  著者;　Y.Ohtsu, G. Sakata, J. Schulze, T. Yasunaga and Y. Ikegami
  
• ターゲット有効利用のための磁石回転型マグネトロンスパッタ装置の開発;　2021年09月
  発表情報;　第８２回応用物理学会秋季学術講演会、10P-S301-8
  著者;　安田洸也、大津康徳
  
• 円筒対向ターゲットスパッタのための高周波リング状ホロー磁化プラズマの生成;　2021年09月
  発表情報;　第８２回応用物理学会秋季学術講演会、10P-S301-9
  著者;　井本将真、大津康徳
  
• アンバランスマグネトロンスパッタによるポリカーボネート板へのPTFE撥水性膜合成及び評価;　2020年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第２４回支部大会、オンライン口頭発表、20aA-03, 24, 51-52
  著者;　井野雄太、大津康徳、安永健、池上康之、田原竜夫、藤尾侑輝
  
• 高周波マグネトロンスパッタにおける回転型新規磁石配置によるターゲット浸食分布の改善;　2020年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第２４回支部大会、オンライン口頭発表、20aA04, 24, 53-54
  著者;　安田洸也、大津康徳
  
• 対向円筒型ターゲットを用いた高周波プラズマスパによる透明導電膜の合成とその空間分布;　2020年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第２４回支部大会、 オンライン口頭発表、20aA02, 24, 49-50
  著者;　坂田豪大，大津康徳
  
• アンバランスマグネトロンスパッタ装置の構築と ポリカーボネート板への PTFE 撥水性薄膜合成;　2020年09月
  発表情報;　第81回応用物理学会秋季学術講演会、, 8a-Z04-15
  著者;　井野 雄太、大津 康徳、安永 健、池上 康之
  
• ターゲット有効利用のための新規磁石配置による回転型高周波マグネトロンスパッタリング装置の開発;　2020年09月
  発表情報;　第81回応用物理学会秋季学術講演会, 8p-Z21-1
  著者;　安田 洸也、大津 康徳
  
• Development of rotational maze-shaped RF magnetron plasma for successful target utilization and the thin film preparation;　2020年03月
  発表情報;　ISPlasma2020/IC-PLANTS2020, Nagoya, March 10, 10P2-06
  著者;　Yasunori Ohtsu, Rei Tanaka and Takahiro Nakashima
  
• 回転迷路型高周波マグネトロンスパッタ装置の開発とその評価;　2019年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第23回 支部大会, B-4
  著者;　田中黎，中嶋崇博，大津康徳
  
• アルゴン・酸素混合ガスを用いた高周波ホロー陰極放電プラズマアッシングの酸素濃度依存性と分光特性;　2019年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第23回 支部大会, P-05
  著者;　本田進之介，井野雄太，福永悠人，大津康徳
  
• 高周波マグネトロンスパッタリングによる金属板表面へのPVDF薄膜合成 ·;　2019年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第23回 支部大会, P-23
  著者;　安田洸也，井野雄太，大津康徳
  
• アンバランスマグネトロンスパッタによる次世代自動車窓材プラスチック板への撥水性薄膜合成·;　2019年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第23回 支部大会, P-32
  著者;　井野雄太，安田洸也，大津康徳
  
• Production of double ring-shaped magnetized radio-frequency hydrogen high-density plasma;　2019年11月
  発表情報;　2019 International Symposium on Dry Process, P-32, 119-120
  著者;　Y. Ohtsu, K. Kawabata, K. Aso and J. Schulze
  
• ターゲット利用率向上 を目的とした回転迷路型 RF マグネトロンスパッタ装置の開発 とその評価;　2019年09月
  発表情報;　2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-B11-5
  著者;　田中 黎、大津 康徳、中嶋 崇博
  
• アルゴン・酸素混合ガスを用いた高周波ホロー陰極放電プラズマの生成と分光特性;　2019年09月
  発表情報;　2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-B11-6
  著者;　本田 進之介、大津 康徳、井野 雄太、福永 悠人
  
• 次世代自動車窓材プラスチック板への撥水性薄膜合成のための高周波マグネトロンスパッタ装置の開発;　2019年09月
  発表情報;　2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会, 20p-B11-7
  著者;　井野 雄太、大津 康徳、安田 洸也
  
• Characteristics of Aluminum doped zinc oxide film prepared using RF magnetized plasma sputtering source with square-shaped magnet setup;　2019年03月
  発表情報;　Proc. 11th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, 19pE19O
  著者;　M. A. Hossain, Y.Nakamura, K. Sugawara and Y.Ohtsu
  
• 高周波ホロー陰極放電プラズマによるポリイミドフィルムの高速アッシング;　2018年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第22回支部大会
  著者;　本田進之介、井野雄太、大津康徳
  
• ターゲット利用率向上を目的とした回転迷路型高周波マグネ トロンスパッタ装置の開発;　2018年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部大会第22回支部大会
  著者;　田中黎、中村優太朗、栗林佑輝、大津康徳
  
• 低気圧水素ガスにおけるホロー陰極効果と磁場閉 じ込めを用いた高密度水素プラズマの計測;　2018年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第22回支部大会
  著者;　麻生和希、大津康徳
  
• 回転型マグネトロンスパッタ装置の開発とAZO 膜合成;　2018年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第22回支部大会
  著者;　中村優太朗、田中黎、栗林佑輝、大津康徳
  
• RFスパッタ法によるポリカーボネート上へのAZO膜及びPVDF膜合成;　2018年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第22回支部大会
  著者;　菅原光星、中村　翔、大津康徳
  
• Treatment of polycarbonate plate for next-generation vehicle window by radio frequency magnetron plasma sputtering with an arrangement of cylindrical magnets;　2018年11月
  発表情報;　Proc. of 40th anniversary International Symposium on Dry Process (DPS2018), 40, 151-152
  著者;　Y. Ohtsu, Y. Takada, K. Sugawara, Y. Fujio and T. Tabaru
  
• RFスパッタによるポリカーボネートへのAZOとPVDFの薄膜合成;　2018年09月
  発表情報;　2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
  著者;　菅原 光星、大津 康徳
  
• アルゴン酸素混合ガスを用いた高周波ホロー陰極放電プラズマによるポリイミドアッシングの特性;　2018年09月
  発表情報;　2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
  著者;　本田進之介、大津康徳
  
• ホロー陰極効果と磁場閉じ込め効果を用いた低気圧高密度水素プラズマ源の生成;　2018年09月
  発表情報;　2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
  著者;　麻生和希、大津康徳
  
• ターゲット有効利用のための回転型二重マグネトロンスパッタ装置の開発;　2018年09月
  発表情報;　2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
  著者;　中村 優太朗、田中 黎、大津 康徳
  
• ターゲット利用率向上のための回転十字型高周波マグネトロンスパッタ装置の開発;　2018年09月
  発表情報;　2018年第79回応用物理学秋季学術講演会
  著者;　田中黎、中村優太朗、大津康徳
  
• “Preparation of aluminum doped zinc oxide film by radio-frequency magnetized plasma sputtering source with square-shaped rod magnets;　2018年06月
  発表情報;　19th International Congress on Plasma Physics (ICPP 2018), Vancouver, Canada
  著者;　M. A. Hossain, Y. Nakamura, A. Sugawara, and Y. Ohtsu,
  
• 高周波スパッタを用いたポリカーボネートへのAZO及びPVDF薄膜合成;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会、P-02, 21-22
  著者;　菅原光星、植嶋朗仁、大津康徳
  
• 薄膜材料ターゲット有効利用のための回転型レーストラック状マグネトロンスパッタ装置の開発;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会　P-04, 25-26
  著者;　中村優太朗、田中黎、大津康徳
  
• ホロー電極と磁石を用いた低気圧高密度水素プラズマの生成;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会, 29-30
  著者;　麻生和希、川端圭志、大津康徳
  
• ホロー電極を用いたAr-O2混合高周波プラズマの空間構造;　2017年12月
  発表情報;　, 33-34
  著者;　高崎雅也、本田進之介、大津康徳
  
• 高周波マグネトロンスパッタリングによるポリカーボネート上への撥水性PTFE薄膜合成;　2017年12月
  発表情報;　, 67-68
  著者;　植嶋朗仁、菅原光星、大津康徳
  
• 高周波磁化ホロー放電電極を用いた低気圧高密度水素負イオンの生成;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会、P-32, 81-82
  著者;　川端圭志、麻生和希、大津康徳
  
• ターゲット有効利用のための回転十字型マグネトロンスパッタ装置の開発;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会, 85-86
  著者;　田中黎、中村優太朗、大津康徳
  
• 酸素ガスを用いた高周波ホロー陰極放電プラズマによるポリイミドアッシングの高速化;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会, 89-90
  著者;　本田進之介、高崎雅也、大津康徳
  
• Plasma characteristics and performance of rotational square-shaped RF plasma sputtering source;　2017年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第21回支部大会、D-6, 123-124
  著者;　Md. Amzad Hossain, Yasunori Ohtsu
  
• Ring-Shaped Plasma for Target Utilization in Specific Area by HiPIMS Source;　2017年11月
  発表情報;　39th International Symposium on Dry Process, 2017, P-36, 39, 121-122
  著者;　Md. Amzad Hossain, Yasunori Ohtsu
  
• Outer Ring-Shaped Magnetize Plasma by RF and HiPIMS Source;　2017年11月
  発表情報;　70th Annual Gaseous Electronics Conference, Pittsburgh, USA, QR1-6, Bulletin of APS, 62, 1, 71
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• 低気圧高密度プラズマ生成のための高周波磁化ホロー放電電極の開発;　2017年09月
  発表情報;　2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会, 7p-PA3-3
  著者;　麻生 和希、大津 康徳
  
• 薄膜材料ターゲット有効利用のための回転型マグネトロンスパッタ装置の設計;　2017年09月
  発表情報;　2017年応用物理学会秋季学術講演会, 7p-PA3-2
  著者;　中村優太朗、大津康徳
  
• 高周波スパッタによるポリカーボネートへのAZO薄膜合成とその応用;　2017年09月
  発表情報;　2017年応用物理学秋季学術講演会, 8a-PB4-3
  著者;　菅原光星、大津康徳
  
• Ar-O2混合ガスを用いた高周波プラズマの空間構造;　2017年09月
  発表情報;　2017年応用物理学秋季学術講演会, 8a-PB3-5
  著者;　高崎 雅也、大津 康徳、Julian Schulze
  
• Outer Circular Ring-Shaped RF Magnetized Plasma for Specific Area Target Utilization by Magnetic Monopole Arrangement;　2017年05月
  発表情報;　44th International Conference on Plasma Science, WE Poster-5, 21-25 May 2017, Seton Hall Univ., USA
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• RF Magnetized Ring-Shaped Plasma for Uniform Cu Target Utilization by Circular Magnets Monopole Arrangement;　2017年03月
  発表情報;　ISPlasma 2017, Chubu Univ.
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• Surface treatment of silicon wafer by atmospheric pressure plasma jet with a tungsten rod coated by C2F4;　2017年03月
  発表情報;　ISPlasma 2017, Chubu Univ., 201703
  著者;　Yasunori Ohtsu and Kenta Nagamatsu
  
• 高周波水素プラズマ中のプラズマパラメータ計測;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会、, 20, 21-22
  著者;　麻生和希、大津康徳
  
• ポリマー材料を用いた高周波マグネtロンスパッタによる撥水性薄膜合成;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会, 20, 73-74
  著者;　菅原光星、高田祐輔、大津康徳
  
• 対向円筒型ターゲットを用いたリング状磁化放電スパッタによる低抵抗AZO薄膜合成;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会, 20, 77-78
  著者;　住山貴史、福元喬也、大津康徳、田原竜夫、本村大成
  
• Ar-O2混合RFプラズマ中の空間構造のプローブ計測;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会, 20, 81-82
  著者;　高崎雅也、大津康徳
  
• 角型磁石を用いた高周波マグネトロンスパッタ装置の開発と銅ターゲットの有効利用;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会, 20, 107-108
  著者;　中村優太朗、井手　翼、大津康徳
  
• 円筒型AZO対向ターゲットを用いた高周波スパッタプラズマの空間構造;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部、第20回支部大会, 20, 115-116
  著者;　福元喬也、住山貴史、大津康徳
  
• 銅ターゲット均一利用のための回転型十字磁化プラズマスパッタリング装置の開発;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会
  著者;　井手　翼、中村優太朗、大津康徳
  
• RFマグネトロンスパッタにおけるPVDF薄膜特性に及ぼすガス圧力・電力の影響;　2016年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第20回支部大会, 20, 173-174
  著者;　高田祐輔、菅原光星、大津康徳
  
• Preparation of Copper Thin Film by Radio Frequency Magnetized Plasma Sputtering Source with Gyratory Various Magnet Arrangements;　2016年12月
  発表情報;　26th Annual Meeting of MRS-Japan 2016, C4-P20-010
  著者;　Y. Ohtsu , Md. Amzad Hossain, T. Ide and Y. Nakamura
  
• Electrical and Structural Properties of Copper Thin Films Deposited by Novel RF Magnetized Plasma Sputtering with Gyratory Square-Shaped Arrangement by Bar Permanent Magnets;　2016年10月
  発表情報;　69the Annual Gaseous Electronics Conference, October 10-14, 2016, Bulletin of the American Physical Society, 61, 9, 29, FT4-1
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• Spatial structure of plasma density and electron temperature in capacitive RF discharges with a single ring-shaped narrow trench of various depths;　2016年10月
  発表情報;　69th Annual Gaseous Electronics Conference, October 10-14, 2016, Bulletin of the American Physical Society, 61, 9, 46, HT6-60
  著者;　J. Schulze, E. Schuengel, N. Matsumoto, Y. Ohtsu
  
• RFマグネトロンスパッタリングにより合成したPVDF薄膜の評価;　2016年10月
  発表情報;　電気学会プラズマ・パルスパワー・放電合同研究会資料2016年10月20日, pp.1-3, PST-16-075,PPT-16-055,ED-16-171　
  著者;　高田祐輔、菅原光星、大津康徳
  
• 角形磁石を用いた回転型十字磁化プラズマスパッタリング装置の開発と銅ターゲット均一利用;　2016年10月
  発表情報;　電気学会プラズマ・パルスパワー・放電合同研究会資料2016年10月20日, pp.5-7, PST-16-076,PPT-16-056、ED-16-172
  著者;　井手　翼、中村優太朗、大津康徳、田原竜夫、本村大成
  
• 対向円筒型ターゲットを用いたRF磁化放電スパッタによるAZO透明導電薄膜合成;　2016年10月
  発表情報;　電気学会プラズマ・パルスパワー・放電合同研究会資料2016年10月20日, pp.9-12, PST-16-077、PPT-16-057、ED-16-173
  著者;　住山貴史、福本喬也、大津康徳、田原竜夫、本村大成
  
• 円筒型ターゲットを用いた高周波磁化プラズマスパッタによるAZO薄膜の低温合成;　2016年03月
  発表情報;　第63回応用物理学会春季学術講演会、19p-P6-2、東工大、201603
  著者;　大津　康徳、住山　貴史、山口　真依、田原　竜夫、本村　大成
  
• Development of High-Density RF Magnetized Sputtering Plasma Source with Square-Shaped Arrangement of Magnets for Uniform Target Utilization;　2016年03月
  発表情報;　2016年第63回応用物理学会春季学術講演会、19p-P8-1、東工大、201603
  著者;　M. A. Hossain, K. Ikari , T. Ide, Y. Ohtsu
  
• 角形磁石による十字磁化プラズマの開発と銅ターゲット均一利用;　2016年01月
  発表情報;　第18回連携大学院産学官交流セミナー
  著者;　井手　翼、碇　紘一郎、大津康徳、田原竜夫、本村大成
  
• 角形磁石を用いた十字磁化プラズマの開発と銅ターゲット均一利用;　2015年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第19回支部大会, 65-66
  著者;　井手　翼、碇　紘一郎、大津　康徳、田原　竜夫、本村　大成
  
• リングホロー電極を用いたRFマグネトロンスパッタリングによるAZO薄膜合成;　2015年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第19回支部大会, 67-68
  著者;　住山貴史、山口真依、大津康徳
  
• RFマグネトロンスパッタによるポリカーボネートへのPVDF薄膜合成;　2015年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部　第19回支部大会, 145-146
  著者;　高田祐輔、高崎雅也、大津康徳
  
• 薄膜材料ターゲット均一利用のための十字磁化プラズマスパッタ装置の開発;　2015年09月
  発表情報;　第23回電子情報通信学会九州支部学生会講演会, C-29
  著者;　井手　翼、碇　紘一郎、大津　康徳、田原　竜夫、本村大成
  
• RFマグネトロンスパッタによるポリカーボネートへのフッ素樹脂薄膜合成;　2015年09月
  発表情報;　第23回電子情報通信学会九州支部学生会講演会, C-30
  著者;　高田祐輔、大津康徳、高崎雅也
  
• リング状磁化放電スパッタによるAZO薄膜合成;　2015年09月
  発表情報;　第23回電子情報通信学会九州支部学生会講演会, C-37
  著者;　住山貴史、大津康徳、山口真依
  
• Characteristics of Ring-Shaped Hollow Cathode Plasma with a Narrow Trench for High-density Capacitive Plasma Sources;　2015年09月
  発表情報;　The 10th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Korea, P2-17, P2-17
  著者;　Yasunori Ohtsu, Naoki Matsumoto, Yuto Morita, Julian Schulze , Edmund Schuengel
  
• Plasma characteristics and target erosion profile of racetrack-shaped RF magnetron plasma with weak rubber magnets for full circular target utilization;　2015年09月
  発表情報;　The 10th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Korea, P2-18, P2-18
  著者;　Yasunori Ohtsu, Shohei Tsuruta, Tatsuo Tabaru and Morito Akiyama
  
• Spatial structures of ring-shaped hollow cathode RF plasma with a single narrow trench for high-density plasma sources;　2015年09月
  発表情報;　The 76th JSAP Autumn meeting, 2015, Nagoya, 15p-PB2-45
  著者;　Yasunori Ohtsu, Naoki Matsumoto, Yuto Morita, Schulze Julian、Schuengel Edmund
  
• ターゲット有効利用のための様々な形状の磁化プラズマ生成と評価;　2015年03月
  発表情報;　２０１５年第62回応用物理学春季学術講演会、12p-P10-2
  著者;　大津　康徳、鶴田　昇平、井手　翼 、田原　竜夫、秋山　守人
  
• リング状ホロー電極型高密度容量結合プラズマの溝深さの影響;　2015年03月
  発表情報;　2015年第62回応用物理学春季学術講演会、12p-P10-3
  著者;　大津康徳、松本直樹
  
• 機能性薄膜材料ターゲット有効利用のためのスパッタプラズマ装置の開発;　2015年01月
  発表情報;　第17回連携大学院産学官交流セミナー、佐賀大学、2015.1．27
  著者;　鶴田昇平、大津康徳、田原竜夫、秋山守人
  
• リング状ホロー電極型容量結合プラズマの空間分布に及ぼす溝深さの影響;　2014年12月
  発表情報;　2014年度（平成26年度）応用物理学会九州支部学術講演会,大分大学,2014.12.6, 6Fa-1,p124, 40, 124
  著者;　松本直樹、大津康徳
  
• 材料ターゲット高効率利用のためのレーストラック型マグネトロンスパッタ装置の特性;　2014年12月
  発表情報;　2014年度（平成26年度）応用物理学会九州支部学術講演会、大分大学、2014.12.6, 6Fa-3, p126, 40, 126
  著者;　鶴田昇平、大津康徳
  
• ターゲット均一利用のための角形磁石を用いた十字型磁化プラズマの開発;　2014年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第18回支部大会,p-36, 2014.12.20, 九州大学総理工, 18, 87-88
  著者;　井手　翼，大津康徳，田原竜夫，秋山守人
  
• ホロー電極と永久磁石を用いた低気圧高密度プラズマの空間分布計測;　2014年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第18回支部大会,P-37、2014.12.20, 九州大学総理工, 18, 89-90
  著者;　住山貴史，大津康徳
  
• Spatial Profile of High-density Magnetized Capacitive Coupled Plasma with Ring-shaped Hollow Cathode;　2014年11月
  発表情報;　Proc. DPS2014 - 36th International Symposium on Dry Process, Nov. 27-28, P-36, pp89-90, Pacifico Yokohama (2014)., 89-90
  著者;　Y. Ohtsu, T. Yanagise
  
• 薄膜材料高効率利用のためのレーストラック型高周波プラズマスパッタ装置の特性;　2014年09月
  発表情報;　2014年度電子情報通信学会九州支部学生会講演会、C-29、鹿児島大学、2014.9.20
  著者;　鶴田昇平、大津康徳
  
• リング状ホロー電極を用いた容量結合型プラズマに及ぼす溝深さの影響;　2014年09月
  発表情報;　2014年度電子情報通信学会九州支部学生会講演会、C-28、鹿児島大学、2014.9.20
  著者;　松本直樹、大津康徳
  
• 永久磁石を用いたリング状ホロー放電磁化プラズマ生成とその空間分布;　2014年09月
  発表情報;　第75回応用物理学会秋季学術講演会、18p-PB5-1、北大、2014.9.17-20
  著者;　大津康徳，柳瀬俊彰, 江口純太，矢羽田祥貴
  
• PAPER AND PLASTIC-BASED WASTE NEUTRALIZATION USING MICROWAVE AND ELECTRIC ENERGY;　2014年07月
  発表情報;　The 14th International Balkan Workshop on Applied Physics and Materials Science, S5-L03, Constanta, Romania(2014.7.2-4)
  著者;　Sebastian POPESCU and Yasunori OHTSU
  
• スパッタリングターゲット有効利用のための単極磁場配位型マグネトロンプラズマ生成;　2014年03月
  発表情報;　2014年 第61回応用物理学会春季学術講演会,青山学院大学,2014.3.17-20, 19a-PA4-6
  著者;　大津康徳，執行正和，青柳彰宏，秋山守人，田原竜夫
  
• Characteristics of capacitively coupled collisional plasma with RF ring-shaped hollow electrode;　2014年02月
  発表情報;　8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing（ICRP-8/SPP-31), Fukuoka, 6P-AM-S01-P05 (2014.2)
  著者;　Naoki Matsumoto and Yasunori Ohtsu
  
• Development of racetrack-shaped RF magnetron sputtering plasma with rubber magnet for target uniform utilization;　2014年02月
  発表情報;　8th International Conference on Reactive Plasmas / 31st Symposium on Plasma Processing（ICRP-8/SPP-31), Fukuoka, 6P-AM-S01-P04(2014.2)
  著者;　Shohei Tsuruta and Yasunori Ohtsu
  
• 機能性薄膜材料ターゲット有効利用のための磁化プラズマ装置の開発;　2014年02月
  発表情報;　第16回連携大学院交流セミナー、佐賀、（２０１４．２．３）
  著者;　大津康徳、執行正和、秋山守人、田原竜夫
  
• レーストラック型磁石回転による高周波スパッタターゲット利用率の改善;　2013年12月
  発表情報;　2013年（平成25年度）応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集、長崎大学、12/1、1Fa-7, 39, 175
  著者;　鶴田昇平、大津康徳
  
• シート状磁石を用いたマグネトロンプラズマに及ぼす磁石配置の影響;　2013年12月
  発表情報;　2013年（平成25年度）応用物理学会九州支部学術講演会予稿集、長崎大学、12/1、1Fa-9, 39, 177
  著者;　青柳彰宏、大津康徳
  
• リング状ホロー電極を用いた容量結合型衝突プラズマの特性;　2013年12月
  発表情報;　2013年（平成25年度）応用物理学会九州支部学術講演会予稿集、長崎大学、12/1、1Fa-10, 39, 178
  著者;　松本直樹、大津康徳
  
• シート状単極磁場配位を用いた均一スパッタ装置の開発;　2013年09月
  発表情報;　2013 年度電子情報通信学会九州支部学生会講演会・講演論文集、熊本大学、C-15
  著者;　青柳彰宏，大津康徳
  
• 薄膜材料ターゲット高効率利用のための磁石回転型スパッタ装置の開発;　2013年09月
  発表情報;　2013 年度電子情報通信学会九州支部学生会講演会・講演論文集,熊本大学、C-17
  著者;　鶴田昇平，大津康徳
  
• ホロー陰極効果による高速製膜用高密度容量結合型プラズマ装置の開発;　2013年09月
  発表情報;　2013 年度電子情報通信学会九州支部学生会講演会・講演論文集、熊本大学、C-18
  著者;　松本直樹，大津康徳
  
• Production of High-Density RF Plasma Using Ring-Shaped Hollow Cathode for Material Processing;　2013年06月
  発表情報;　5th International Workshop on Plasma Scientech for All Something (PLASAS-5), June 21 – 23, 2013, Tokyo Institute of Technology, Japan
  著者;　Y.Ohtsu
  
• ライン状プラズマの生成とターゲット利用率改善;　2013年03月
  発表情報;　2013年第60回応用物理学会春季学術講演会、2013.3.27-30、神奈川工科大学、29p-PA1-1
  著者;　大津 康徳，松本 祐樹，秋山 守人，田原 竜夫
  
• AlN薄膜高速合成のための磁石配置最適化によるRFマグネトロンプラズマ装置のターゲット利用率改善;　2013年01月
  発表情報;　第１５回佐賀大学連携大学院産学官交流セミナー、佐賀大学、平成25年1月28日
  著者;　大津康徳、松本祐樹、秋山守人、田原竜夫
  
• アルゴン・水素混合ガスを用いた高周波リング状ホロー放電プラズマ特性;　2012年12月
  発表情報;　電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会「プラズマ・パルスパワー一般」、東京大学、PST-12-085,PPT-12-108.(2012.12.10), 1-4
  著者;　大津康徳、川﨑裕次郎、武田賢治
  
• 線状マグネトロンプラズマによるターゲット利用率の改善;　2012年12月
  発表情報;　2012年度応用物理学会九州支部学術講演会、佐賀、1Fa-12(2012.12.1), 118-118
  著者;　松本祐樹、大津 康徳, 三沢 達也
  
• リング状ホロー電極と永久磁石を用いた低気圧RF高密度プラズマの生成;　2012年12月
  発表情報;　2012年度応用物理学会九州支部学術講演会、佐賀、1Fp-1(2012.12.1), 119-119
  著者;　矢羽田 祥貴, 大津 康徳
  
• 高密度プラズマ生成に及ぼすリング状ホロー電極溝形状の影響;　2012年12月
  発表情報;　2012年度応用物理学会九州支部学術講演会、佐賀、1Fp-3(2012.12.1), 121-121
  著者;　武田 賢治, 大津 康徳
  
• 単極磁場配位型マグネトロンプラズマに及ぼす磁石間距離の影響;　2012年12月
  発表情報;　2012年度応用物理学会九州支部学術講演会、佐賀、1Fp-5(2012.12.1), 123-123
  著者;　青柳彰宏, 大津康徳
  
• 高効率プラズマスパッタ薄膜合成装置開発におけるイオン密度分布計測;　2012年11月
  発表情報;　IEEE主催2012年度第2回学生研究発表会、佐賀、IEEE_IM-S12-19(2012.11.29), 3-4
  著者;　鶴田昇平、大津康徳
  
• ホロー効果を用いたプラズマプロセス装置におけるプラズマ密度のガス圧依存性;　2012年11月
  発表情報;　IEEE主催2012年度第2回学生研究発表会、佐賀、IEEE_IM-S12-20(2012.11.29), 5-6
  著者;　松本直樹、大津康徳
  
• 永久磁石とホロー電極を用いた低気圧プラズマ装置のプラズマ密度計測;　2012年10月
  発表情報;　IEEE主催2012年度第2回学生研究発表会、佐賀、IEEE_IM-S12-18(2012.11.29), 1-2
  著者;　江口純太、大津康徳、
  
• 高密度プラズマ生成に及ぼすホロー電極の溝形状の影響;　2012年09月
  発表情報;　平成２４年度　第20回電子情報通信学会九州支部学生会講演会、長崎大学、C - 16
  著者;　武田賢治,大津康徳
  
• ターゲット利用率向上のための棒磁石を用いたライン状マグネトロンプラズマの生成;　2012年09月
  発表情報;　平成24年度第20回電子情報通信学会九州支部学生会講演会、長崎大学、C-18
  著者;　松本 祐樹，大津康徳
  
• ホロー電極を用いた低圧力高密度プラズマ源の開発に及ぼす永久磁石の影響;　2012年09月
  発表情報;　平成24年度第20回電子情報通信学会九州支部学生会講演会、長崎大学、C-19
  著者;　矢羽田　祥貴、大津康徳
  
• 単極磁場配位を用いた高周波マグネトロンプラズマの開発;　2012年09月
  発表情報;　平成24年度第20回電子情報通信学会九州支部学生会講演会、長崎大学、C-21
  著者;　青柳彰宏、大津康徳、三沢達也
  
• 単極磁場配位型RFマグネトロンスパッタによるターゲット利用率改善;　2012年05月
  発表情報;　平成24年度電気学会プラズマ研究会（第1回）、豊橋技術科学大学、2012.05.10-11、, PST-12-003
  著者;　大津康徳、執行正和、三沢達也
  
• Wood Surface Treatment by Atmospheric RF Capacitively Coupled Plasma Jet;　2012年04月
  発表情報;　Proc. The 7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-7), PL-07-01, 1-3
  著者;　Y.Ohtsu and M.Z.Hassan
  
• Numerical simulation of rf capacitive coupled plasma with ring-shaped hollow cathode;　2012年03月
  発表情報;　Abstract of The 2nd AICS International Symposium, Kobe, 2012.3.1-2, 12P, 62
  著者;　Yasunori Ohtsu
  
• 単極磁場配位によるRFマグネトロンスパッタのターゲット利用改善;　2012年03月
  発表情報;　2012年度春季第59回応用物理学関係連合講演会,17a-A7-15
  著者;　大津康徳、執行正和、三沢達也
  
• 外部磁石支援型マグネトロンスパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜高速合成に関する研究;　2012年01月
  発表情報;　第１４回連携大学院産学官交流セミナー
  著者;　大津康徳、執行正和、秋山守人、田原竜夫
  
• 高周波リング状ホロー陰極放電プラズマ生成に及ぼす溝形状の影響;　2011年12月
  発表情報;　電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会、東工大　すずかけ台キャンパス、2011.12.15, PST-11-087、PPT-11-088 (2011.12.15)pp.77-80., 77-80
  著者;　大津康徳、矢羽田祥貴，加々見丈二，川下安司，竹内達也,三沢達也
  
• ターゲット均一利用のための棒磁石を用いた、線状マグネトロンプラズマの生成;　2011年12月
  発表情報;　平成23年度プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第15回支部大会、大分大学工学部、2011.12.17、Ｐ-2
  著者;　松本祐樹(M1)，大津康徳，三沢達也
  
• ホロー電極と永久磁石を用いた低気圧高密度容量結合プラズマの空間分布測定;　2011年12月
  発表情報;　平成23年度プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第15回支部大会、大分大学工学部、2011.12.17P-3
  著者;　矢羽田祥貴(M1)，大津康徳，三沢達也
  
• ポリイミドフィルム親水化処理に及ぼす大気圧容量結合型プラズマジェットの処理位置の影響;　2011年12月
  発表情報;　平成23年度プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第15回支部大会、大分大学工学部、2011.12.17,P-4
  著者;　浦　良彦(M2)、大津康徳，三沢達也
  
• 高密度プラズマ生成のためのリングホロー電極溝形状の検討;　2011年12月
  発表情報;　平成23年度プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第15回支部大会、大分大学工学部、2011.12.17, P-9
  著者;　武田賢治(M1)、大津康徳，三沢達也
  
• ターゲット均一浸食利用のための単極磁場配位による高周波マグネトロンスパッタの開発;　2011年12月
  発表情報;　平成23年度プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第15回支部大会、大分大学工学部、2011.12.18、B-1
  著者;　執行正和(M2)、大津康徳，三沢達也
  
• Ar/H2混合ガスを用いたリング状ホロー放電のプラズマ特性;　2011年12月
  発表情報;　平成23年度プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第15回支部大会、大分大学工学部、2011.12.17、C-２
  著者;　川﨑裕次郎(M2)、大津康徳，三沢達也
  
• Influence of trench shape of ring-shaped hollow electrode on high-density capacitive coupled plasma;　2011年11月
  発表情報;　Proc. Plasma Conference 2011, Kanazawa, 22P027-O(2011.11.22)
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Yahata, J.Kagami, Y.Kawashimo, T.Takeuchi, T.Misawa
  
• 水素リング状ホロー放電による高周波プラズマの高密度化;　2011年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部連合会講演会、佐賀、04-1P-07, p163(2011.9.26)
  著者;　川﨑裕次郎、大津康徳、三沢達也
  
• パルス変調大気圧容量結合型プラズマジェットを用いたポリイミドフィルムの親水化処理;　2011年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部連合会講演会、佐賀、 10-2P-09 p605 (2011.9.26)
  著者;　浦良彦,大津康徳,三沢達也
  
• 単極磁場配位を用いたターゲット均一スパッタリング装置の開発;　2011年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部連合会講演会、佐賀10-2P-12p608(2011.9.27)
  著者;　執行正和,大津康徳, 三沢達也
  
• 棒磁石の最適化によるマグネトロンプラズマのターゲット利用率の改善;　2011年09月
  発表情報;　電子情報通信学会九州支部学生会講演会、佐賀、C-49、(2011.9.28)
  著者;　松本祐樹,大津康徳
  
• ホロー電極と永久磁石による低気圧高密度プラズマの開発;　2011年09月
  発表情報;　電子情報通信学会九州支部学生会講演会、佐賀、C-50、(2011.9.28)
  著者;　矢羽田祥貴,大津康徳
  
• 高密度プラズマ発生のための新しいリングホロー電極の開発;　2011年09月
  発表情報;　電子情報通信学会九州支部学生会講演会、佐賀、C-51、(2011.9.28)
  著者;　武田賢治,大津康徳
  
• 低電子温度プラズマＣＶＤによる撥水膜合成と 低電子温度プラズマＣＶＤによる撥水膜合成と 低電子温度プラズマＣＶＤによる撥水膜合成とその密着性改善;　2011年05月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会資料PST-11-019, 1-4
  著者;　大津 康徳 ，木原清晴，三沢達也
  
• 高周波プラズマによる機能性薄膜合成;　2011年03月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会資料、PST-11-006、2011年3月14日, 21-24
  著者;　大津康徳
  
• ハイブリッドプラズマスパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜高速合成に関する研究;　2011年01月
  発表情報;　連携大学院セミナー
  著者;　田中茂徳、大津康徳、秋山守人
  
• 酸化物電極やホロー構造電極による容量結合プラズマの高密度化;　2010年12月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会資料　PST－10－084，PPT－10－104, 91-94
  著者;　大津康徳、川崎裕次郎、三沢達也
  
• 無水銀光源開発に関する容量結合プラズマに及ぼす電極材料の影響;　2010年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第14回支部大会研究発表論文集P-14, 55-56
  著者;　椛島一稔、三沢達也、大津康徳
  
• C2H2F2 を用いた低電子温度プラズマによる撥水性薄膜合成とその基板パルスバイアスの影響;　2010年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第14回支部大会研究発表論文集、P-15, 57-58
  著者;　木原清晴、大津康徳、三沢達也
  
• 単極磁場配位を用いた高周波磁化プラズマスパッタ源の開発;　2010年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第14回支部大会研究発表論文集、P-16, 59-60
  著者;　執行正和、大津康徳、三沢達也
  
• 高周波スパッタリングによるAlN 薄膜合成;　2010年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第14回支部大会研究発表論文集、P-17, 61-62
  著者;　田中茂徳、三沢達也、大津康徳、 秋山守人
  
• パルス変調高周波大気圧プラズマジェットを用いたポリイミドフィルムの親水化処理;　2010年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第14回支部大会研究発表論文集、E-4, 103-104
  著者;　浦　良彦、大津康徳、三沢達也
  
• 無水銀光源に関する誘電体電極を用いた高周波容量結合プラズマ特性;　2010年09月
  発表情報;　平成２２年度照明学会全国大会、大阪市立大学、, 1-1
  著者;　椛島一稔、三沢達也、大津康徳
  
• マルチリング電極型大気圧高周波プラズマジェットのパルス変調効果と表面処理;　2010年09月
  発表情報;　第71回応用物理学会学術講演会,長崎大学、14p-P4-11
  著者;　大津康徳、浦　良彦、三沢達也
  
• C2H2F2/Ar低電子温度プラズマCVD法による撥水性薄膜合成に及ぼす基板バイアスの影響;　2010年09月
  発表情報;　第18回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会、福岡工大、C-23
  著者;　木原清晴、大津康徳
  
• 誘導結合型プラズマスパッタリング法を用いた圧電性窒化アルミニウム薄膜合成;　2010年09月
  発表情報;　第18回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会、福岡工大、C-28
  著者;　田中茂徳、三沢達也、大津康徳、秋山守人
  
• 無水銀光源開発における容量結合プラズマ特性に及ぼす電極材料の影響;　2010年09月
  発表情報;　第18回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会、福岡工大、C-29
  著者;　椛島一稔(M2)、三沢達也、大津康徳
  
• 高周波プラズマスパッタリングに及ぼす永久磁石配位の影響;　2010年09月
  発表情報;　第18回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会、福岡工大、C-30
  著者;　執行正和(M1)、大津康徳、三沢達也
  
• 大気圧容量結合型プラズマジェットによるポリイミドフィルムの親水化;　2010年09月
  発表情報;　第18回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会、福岡工大、C-31
  著者;　浦　良彦(M1)、大津康徳、三沢達也
  
• リング状ホロー放電による高周波プラズマの高密度化と空間分布の均一化;　2010年09月
  発表情報;　第18回 電子情報通信学会九州支部 学生会講演会、福岡工大、C-32
  著者;　川崎裕次郎(M1)、大津康徳、三沢達也
  
• フッ化ビニリデンガスを用いた高周波プラズマＣＶＤによる撥水性薄膜合成;　2010年08月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会資料, PST10, 58, 51-54
  著者;　大津康徳、木原清晴、三沢達也
  
• Production of high-density capacitive-discharge plasma with ring-shaped hollow cathode for thin film preparation;　2010年07月
  発表情報;　Abstract of First International Conference on Fundamentals and Industrial Applications of HIPIMS, Sheffield, UK, 38
  著者;　 Y. Ohtsu, H. Urasaki and T. Hotta
  
• リング状ホロー陰極効果による高密度高周波プラズマ生成;　2010年05月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会資料, PST-10, 009, 1-4
  著者;　大津康徳、浦崎浩史、堀田智宏、三沢達也
  
• リング状ホロー溝電極を用いた高密度容量結合型プラズマ生成;　2010年03月
  発表情報;　第57回応用物理学関係連合講演会
  著者;　大津　康徳，浦崎　浩史，三沢　達也，藤田　寛治、
  
• リンク゛電極を用いた大気圧容量結合放電プラズマジェット生成とその応用;　2010年03月
  発表情報;　第57回応用物理学関係連合講演会
  著者;　大津 康徳，浦 良彦，田中 茂徳, 三沢 達也
  
• Production of High-Density Plasma with Plasma-Ring Discharge;　2010年02月
  発表情報;　Proc. 27th Symp. Plasma Processing, 129-130
  著者;　Yasunori Ohtsu, Hiroshi Urasaki, Tatsuya Misawa, Hiroharu Fujita
  
• Characteristics of RF Capacitively Coupled Plasma with High-Secondary-Electron-Emission Electrode Materials for Mercury-Free Lamp;　2010年02月
  発表情報;　Proc. 27th Symp. Plasma Processing, Yokohama, 131-132
  著者;　Kazutoshi Kabashima, Tatsuya Misawa, Yasunori Ohtsu
  
• Development of Frequency Plasma Sputtering Device for Preparation of High-Temperature Piezoelectric-Sensor Thin Films;　2010年02月
  発表情報;　Proc. 27th Symp. Plasma Processing, 193-194
  著者;　Shigenori Tanaka, Tatsuya Misawa, Yasunori Ohtsu, Morito Akiyama,
  
• Preparation of Water-Repellent Thin Film with Low-Electron-Temperature Plasma CVD Using Mixture Gases of C2H2F2 and Ar;　2010年02月
  発表情報;　Proc. 27th Symp. Plasma Processing, 195-196
  著者;　Kiyoharu Kihara, Yasunori Ohtsu, Tatsuya Misawa,
  
• 機能性薄膜高速合成を目指した高密度プラズマ装置の開発;　2010年01月
  発表情報;　第１２回連携大学院産学官交流セミナー
  著者;　大津康徳
  
• ICP支援低周波バイアススパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜の高速合成に関する研究;　2010年01月
  発表情報;　第１２回連携大学院産学官交流セミナー
  著者;　大津康徳、田中茂徳、秋山守人、田原竜夫
  
• Development of high-density plasma source produced by capacitive discharge with ring-shaped hollow electrode for thin film preparation;　2009年12月
  発表情報;　Proc. The Sixth Asia-Pacific International Symposium on the Basic and Application of Plasma Technology, 71-72
  著者;　Yasunori Ohtsu, Hiroshi Urasaki(M2) and Tomohiro Hotta(B4)
  
• リング状ホロー放電による容量結合型プラズマの高密度化;　2009年12月
  発表情報;　プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部第１３回支部大会研究発表論文集, 9-10
  著者;　浦崎 浩史，三沢 達也，大津 康徳,藤田 寛治
  
• マルチリング電極を用いた大気圧容量結合型放電プラズマジェットの生成;　2009年12月
  発表情報;　プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部第１３回支部大会研究発表論文集, 110-111
  著者;　大津 康徳，田中 茂徳，浦 良彦，三沢 達也
  
• リング状ホロー溝電極を用いた高密度容量結合型プラズマの生成;　2009年11月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会資料, PST-09-130, 19-22
  著者;　大津康徳、浦崎浩史、三沢達也、藤田寛治
  
• リング状ホロー電極を用いた容量結合型プラズマ生成に与える溝とガス圧の影響;　2009年11月
  発表情報;　平成２１年度応用物理学会九州支部学術講演会, 78-78
  著者;　浦崎浩史、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing;　2009年09月
  発表情報;　Abstract of 16th International Conference of Surface Modification of Materials by Ion Beams PC-56, 222-222
  著者;　Y.Ohtsu, N.Wada, T.Misawa and H.Fujita
  
• Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films;　2009年09月
  発表情報;　Abstract of 16th International Conference of Surface Modification of Materials by Ion Beams PC-57, 223-223
  著者;　Y.Ohtsu, K.Hino, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• Development of high-density radio frequency plasma s ource with ring-shaped hollow electrode for dry processing;　2009年09月
  発表情報;　Proc. of 31 International Symposium on Dry process, 2-P25, 57-58
  著者;　Y.Ohtsu, H.Urasaki, T.Misawa and H.Fujita
  
• 無水銀光源のための容量結合プラズマ特性に及ぼす誘電体電極材料の影響;　2009年09月
  発表情報;　平成２１年度電気関係学会九州支部第62回連合大会講演論文集, 12-2A-01
  著者;　椛島一稔(M1)、大津康徳、三沢達也
  
• リング状ホロー電極を用いた容量結合型プラズマに及ぼす溝構造の影響;　2009年09月
  発表情報;　平成２１年度電気関係学会九州支部第62回連合大会講演論文集、12-2A-02
  著者;　浦崎浩史(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• AlN薄膜合成のための二周波プラズマスパッタリング装置の構築;　2009年09月
  発表情報;　平成２１年度電気関係学会九州支部第62回連合大会講演論文集、12-2A-03
  著者;　田中茂徳(M1)、大津康徳、三沢達也、秋山守人
  
• 高密着撥水性薄膜合成のための低電子温度プラズマ装置の構築;　2009年09月
  発表情報;　平成２１年度電気関係学会九州支部第62回連合大会講演論文集、12-2A-04
  著者;　木原清晴(M1)、大津康徳、三沢達也
  
• リング状溝電極を用いた高密度容量結合型プラズマの生成とその空間分布の均一化;　2009年08月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会PST-09-78, 25-28
  著者;　大津康徳、浦崎浩史、堀田智宏、三沢達也、藤田寛治
  
• リング状ホロー電極を用いた容量結合型プラズマの高密度化;　2009年06月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会, PST-09, 21, 41-45
  著者;　浦崎浩史、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Production of low-pressure high-density RF plasma using ring-shaped hollow cathode electrode;　2009年02月
  発表情報;　Proc. of Plasma Science Symposium 2009/The 26th Symposium on Plasma Processing, P2-54,pp.316-317., 316-317
  著者;　浦崎浩史(M1)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Production of Atmospheric Radio Frequency Plasma Source using Helical Coil;　2009年02月
  発表情報;　Proc. of Plasma Science Symposium 2009/The 26th Symposium on Plasma Processing,P2-56, pp.320-321., 320-321
  著者;　椛島一稔(B4)、三沢達也、大津康徳
  
• Production of Atmospheric Plasma Jet with Capacitively Coupled Discharge and its Application;　2009年02月
  発表情報;　Proc. of Plasma Science Symposium 2009/The 26th Symposium on Plasma Processing, P3-33, pp.480-481., 480-481
  著者;　S.Tanaka, T.Misawa and Y.Ohtsu
  
• 二周波プラズマスパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜高速合成に関する研究;　2009年02月
  発表情報;　第１１回連携大学院交流セミナー、佐賀大(2009.2)、４。
  著者;　大津康徳、樋野幸己、多田翔吾、三沢達也、秋山守人、田原竜夫
  
• Preparation of water-repellent thin film with C2H2F2/Ar plasma and investigation of its adhesion;　2009年01月
  発表情報;　Proc. of The 2nd International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (IC-PLANTS), Nagoya, (2009.1), P-05
  著者;　K.Wada, T.Misawa, Y.Ohtsu and H.Fujita,
  
• Preparation of aluminum nitride thin film with dual frequency plasma sputtering;　2009年01月
  発表情報;　Proc. of The 2nd International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (IC-PLANTS), Nagoya, (2009.1) P-13.
  著者;　K.Hino, T.Misawa, Y.Ohtsu, M.Akiyama and H.Fujita,
  
• Observation of dielectric barrier discharge at various Xe/Ne mixture gas ratios;　2009年01月
  発表情報;　Proc. of The 2nd International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (IC-PLANTS), Nagoya, (2009.1) P-19.
  著者;　T.Yamamura, T.Misawa, Y.Ohtsu and H.Fujita,
  
• C2H2F2/Arプラズマを用いた撥水性薄膜合成;　2008年12月
  発表情報;　平成２０年度プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部講演会、A1、pp.5-6, 5-6
  著者;　 和田和憲(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治、
  
• Xe/Ne混合ガスを用いた誘電体バリヤ放電特性;　2008年12月
  発表情報;　平成２０年度プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部講演会、P42、pp.129-130, 129-130
  著者;　山村貴博(M2)・三沢達也・大津康徳・藤田寛治、
  
• 二周波プラズマスパッタリング法を用いた窒化アルミニウム薄膜の高速合成;　2008年12月
  発表情報;　平成２０年度プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部講演会、C4、pp.29-30, 29-30
  著者;　樋野幸己(M2)、三沢達也、大津康徳、秋山守人、藤田寛治
  
• リング状溝電極を用いた高密度高周波プラズマ生成とその空間構造;　2008年12月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会、京都（2008.12）PST-08-109, pp.61-64, 61-64
  著者;　大津康徳、浦崎浩史(M1)、三沢達也、藤田寛治
  
• リング状ホロー電極を用いた高密度高周波プラズマ生成;　2008年11月
  発表情報;　平成２０年度応用物理学会九州支部学術講演会、29Dp-1、p62, 62-62
  著者;　浦崎浩史、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• DEVELOPMENT OF MICROWAVE REACTOR FOR PAPER-BASED WASTE NEUTRALIZATION;　2008年10月
  発表情報;　Proc. of The 5th Asian-Pacific Landfill Symposium in Sapporo, October 22-24, 2008, 4B-4, pp.1-6.(CD-ROM), 1-6
  著者;　Yasunori Ohtsu, Ryuzo Yamada, Hiroshi Urasaki, Tatsuya Misawa, Sebastian Popescu and Hiroharu Fujita
  
• リング状ホロー電極を用いた高密度高周波プラズマ源の開発;　2008年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部第６１回連合大会、04-2P-05(2008.9)
  著者;　浦崎浩史、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 誘電体バリヤ放電開始電圧に及ぼすXe/Neガス混合比の影響;　2008年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部第６１回連合大会、04P-2P-06、(2008.9)
  著者;　山村貴博、三沢達也、大津康徳、藤田寛治、
  
• C_2H_2F_2を用いた低電子温度プラズマによる撥水性薄膜合成とその密着性の検討;　2008年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部第６１回連合大会、04P-2P-14,(2008.9)
  著者;　和田和憲、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 二周波プラズマスパッタリングを用いた窒化アルミニウム薄膜の高速合成;　2008年09月
  発表情報;　電気関係学会九州支部第６１回連合大会、04P-2P-15、(2008.9)
  著者;　樋野幸己、三沢達也、大津康徳、秋山守人、藤田寛治、
  
• Two-dimensional spatial structure of inductively coupled plasma with one internal loop antenna;　2008年09月
  発表情報;　Abstract of 2008　International Conference on Plasma Physics, Fukuoka, Sept.8-12, ESP・P2-194(2008)p282., 282
  著者;　Y.Ohtsu, K.Aramaki and H.Fujita,
  
• High density capacitive plasma with multi-hollow cathode discharge and secondary electron emission;　2008年09月
  発表情報;　Abstract of 2008 International Conference on Plasma Physics, Fukuoka, Sept.8-12, ESP・P2-195(2008)p282., 282
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama,
  
• Preparation of transparent repellent films on plastic plate by low temperature RF plasma using C_2H_2H_2 gas;　2008年09月
  発表情報;　Abstracts of The Eleventh International Conference on Plasma Surface Engineering, PO2021, (2008)p316., 316
  著者;　Y.Ohtsu, N.Wada, T.Misawa and H.Fujita
  
• Inactivation of bacillus subtilis by atmospheric RF plasma for security and relief in life;　2008年09月
  発表情報;　Abstracts of The Eleventh International Conference on Plasma Surface Engineering, PO2075. (2008), p370., 370
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Miyazaki and H.Fujita
  
• Production of high-density capacitively coupled plasma with RF multi-hollow cathode and/or high secondary electron emission;　2008年09月
  発表情報;　Abstracts of The Eleventh International Conference on Plasma Surface Engineering, PO4058 (2008), p549., 549
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura,
  
• 二周波プラズマスパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜の高速合成～アルミニウム薄膜高速化～;　2008年07月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会、広島
  著者;　樋野幸己、三沢達也、大津康徳、秋山守人、藤田寛治
  
• C_2H_2F_2を用いたプラズマＣＶＤ法による撥水性薄膜合成とその密着性の検討;　2008年07月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会、広島
  著者;　和田和憲、三沢達也、大津康徳、藤田寛治、
  
• 誘電体バリア放電に及ぼすXe/Ne混合ガス比の影響;　2008年07月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会、広島
  著者;　山村貴博、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• マルチホロー陰極効果・高２次電子放出作用を用いた容量結合型高周波プラズマ生成;　2008年03月
  発表情報;　２００７年度春季第５３回応用物理学関係連合講演会、千葉
  著者;　大津康徳、中村千紗、三沢達也、藤田寛治、秋山守人、行村　建
  
• Inactivation of bacillus subtilis by atmospheric barrier discharge plasma;　2008年01月
  発表情報;　Proc. of The 25th Symposium on Plasma Processing, Yamaguchi,
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Miyazaki, T.Misawa and H.Fujita
  
• Production of high-density capacitively coupled plasma with multi-hollow cathode effect and preparation of a-C:H thin films;　2008年01月
  発表情報;　Proc.of The 25th Symposium on Plasma Processing, Yamaguchi
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• C_2H_2F_2を用いたプラズマＣＶＤ法による撥水性薄膜合成;　2007年12月
  発表情報;　２００７年度応用物理学会九州支部学術講演会、北九州、1Ca-9
  著者;　和田憲和、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 誘電体バリア放電開始電圧に与えるＸｅ／Ｎｅガス混合比の影響;　2007年12月
  発表情報;　２００７年度応用物理学会九州支部学術講演会、北九州、2Ca-4
  著者;　山村貴博、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Production of high-density capacitively discharge plasma with multi-hollow cathode for DLC coating;　2007年12月
  発表情報;　The 18th Symposium of the Materials Research Society of Japan, Tokyo,
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• プロセス用高周波・マイクロ波プラズマ源の開発とその応用;　2007年12月
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会、京都
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• マイクロ波電力を用いた紙おむつの炭化処理;　2007年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第１１回支部大会、宮崎
  著者;　山田竜蔵、浦崎浩史、セバスチャンポペスク、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• ワンターン型アンテナ誘導結合型プラズマの空間構造解析;　2007年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第１１回支部大会、宮崎
  著者;　荒巻和洋、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• マルチホロー電極型高周波プラズマＣＶＤ法による炭素系薄膜の合成;　2007年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第１１回支部大会、宮崎
  著者;　中村千紗、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• マイクロ波による紙おむつの炭化処理;　2007年11月
  発表情報;　第１８回廃棄物学会研究発表会、茨城、Ｃ１－１, 555-557
  著者;　山田竜蔵、浦崎浩史、セバスチャンポペスク、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• マルチホロー陰極効果を用いた高密度容量結合型プラズマ生成と炭素系薄膜合成;　2007年11月
  発表情報;　第２３回九州山口プラズマ研究会、福岡、
  著者;　大津康徳、中村千紗、三沢達也、藤田寛治、行村　建
  
• Production of dielectric barrier discharge microplasmas at various oxides with high secondary electron emission and high dielectric constan;　2007年10月
  発表情報;　 Abstract of The 4th International Workshop on Microplasmas, Taiwan, Oct. 28-31, FP-018, (2007)pp.57-58., 57-58
  著者;　Y.Ohtsu and H. Fujita
  
• 大気圧バリア放電によるポリマーシートの表面処理;　2007年09月
  発表情報;　第15回電子情報通信学会九州支部学生会講演会
  著者;　内岡勇介、堀謙太郎、三沢達也**, 大津康徳**, 藤田寛治
  
• 誘電体バリヤ放電マイクロプラズマの放電開始電圧の低電圧化;　2007年09月
  発表情報;　第15回電子情報通信学会九州支部学生会講演会
  著者;　山村貴博、三沢達也**, 大津康徳**, 藤田寛治
  
• C2H2F2を用いた低電子温度プラズマによる撥水性薄膜合成;　2007年09月
  発表情報;　第15回電子情報通信学会九州支部学生会講演会
  著者;　和田憲和*，三沢達也**, 大津康徳**, 藤田寛治
  
• マイクロ波電力を用いた紙おむつの無害化処理;　2007年09月
  発表情報;　平成１９年度第６０回連合大会電気関係学会九州支部連合大会
  著者;　山田竜蔵・浦崎浩史・POPESCU Sebastian・三沢達也・大津康徳・藤田寛治
  
• マルチホロー電極型高周波プラズマCVD法による炭素系薄膜の成膜速度向上と均一化」;　2007年09月
  発表情報;　平成１９年度第６０回連合大会電気関係学会九州支部連合大会
  著者;　中村千沙・大津康徳・三沢達也・藤田寛治
  
• ワンターン内部リングアンテナ型誘導結合プラズマの空間構造解析;　2007年09月
  発表情報;　平成１９年度第６０回連合大会電気関係学会九州支部連合大会
  著者;　荒巻和洋・三沢達也・大津康徳・藤田寛治
  
• High Deposition Preparation of Zirconia Films by Optimization of Geometry in Dual Frequency Sputtering for Protective Layer of Ceramics;　2007年09月
  発表情報;　9th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation & Deposition
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Hino, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• Production of high-density RF plasma with multi hollow cathode discharge for DLC coating;　2007年09月
  発表情報;　9th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation & Deposition
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, H.Fujita, M.Akiyama, T.Tabaru and K.Yukimura
  
• Preparation of water-repellent film by RF plasma CVD using C2H2F2 gas;　2007年09月
  発表情報;　Abstract of Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2007), Nagasaki, Sept.24-29, (2007) P1004,p101., -101
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Masuda, S.Yazaki, T.Misawa and H.Fujita,
  
• High-density plasma production by capacitively coupled discharge with multi-hollow cathode and secondary electron emission for DLC coating;　2007年09月
  発表情報;　Abstract of Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2007), Nagasaki, Sept.24-29, (2007)P2009, p177., 177
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita. M.Akiyama, T.Tabaru and K.Yukimura
  
• Plasma characteristics of atmospheric microplasma produced by high secondary electron-emission-material;　2007年08月
  発表情報;　18th International Symposium on Plasma Chemistry
  著者;　Y. Ohtsu, N.Yamasaki and H.Fujita
  
• Inactivation characteristics of Bacillus Subtilis in low pressure pulsed plasma;　2007年08月
  発表情報;　18th International Symposium on Plasma Chemistry
  著者;　Dragos Vicoveanu, Yasunori Ohtsu, Hiroharu Fujita
  
• High density plasma production with effects of hollow-cathode and high secondary-electron-emission for a-C: H thin film preparation;　2007年08月
  発表情報;　18th International Symposium on Plasma Chemistry
  著者;　Y. Ohtsu, C.Nakamura, H.Fujita. M.Akiyama and T.Tabaru
  
• Nonlinear spatial profiles of plasma parameters in a magnetized inductive radio-frequency discharge;　2007年07月
  発表情報;　28th International Conference on Phenomena in Ionized Gases,
  著者;　S. Popescu*, Y. Ohtsu and H. Fujita
  
• Plasma production using one turn internal loop antenna by means of radio frequency discharge;　2007年07月
  発表情報;　28th International Conference on Phenomena in Ionized Gases,
  著者;　H.Fujita, K.Aramaki and Y.Ohtsu
  
• 高２次電子放出電極材料を用いた大気圧マイクロプラズマの放電特性;　2007年03月
  発表情報;　第５４回応用物理関係連合講演会
  著者;　大津康徳，山崎尚人，三沢達也，藤田寛治
  
• ホロー陰極効果と２次電子放出効果による高密度RFプラズマ生成と炭素系薄膜合成;　2007年03月
  発表情報;　第５４回応用物理関係連合講演会
  著者;　大津康徳，中村千沙，三沢達也，藤田寛治，秋山守人*，田原竜夫
  
• Improvement in preparation of a-C:H thin films with RF plasma CVD by multi-hollow electrode;　2007年01月
  発表情報;　24th Symposium on Plasma Processing
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, H.Fujita, M.Akiyama and T.Tabaru
  
• Influence of dielectric constant on atmospheric barrier discharge plasma using noble gas;　2007年01月
  発表情報;　24th Symposium on Plasma Processing
  著者;　Y.Ohtsu, N.Yamasaki and H.Fujita
  
• Spatial structure of RF plasma using an internal loop antenna;　2007年01月
  発表情報;　24th Symposium on Plasma Processing
  著者;　H.Fujita, K.Aramaki and Y.Ohtsu
  
• Formation of double layer in RF magnetized inductively coupled plasma with a helical antenna;　2007年01月
  発表情報;　24th Symposium on Plasma Processing
  著者;　H.Fujita, S.Popescu, A.Ishibashi and Y.Ohtsu
  
• マルチホロー陰極効果・高２次電子放出作用を用いた容量結合型高密度プラズマ生成;　2007年
  発表情報;　２００７年度春季第５３回応用物理学関係連合講演会
  著者;　大津康徳,中村千沙、三沢達也、藤田寛治、秋山守人、行村建
  
• Production of high-density capacitively coupled plasma with multi-hollow cathode effect and preparation of a-C:H thin films;　2007年
  発表情報;　Proc. of The 25th Symposium on Plasma Processing
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• Inactivation of bacillus subtilis by atmospheric barrier discharge plasma;　2007年
  発表情報;　Proc. of The 25th Symposium on Plasma Processing
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Misazaki, T.Misawa and H.Fujita
  
• マルチホロー電極型高周波プラズマＣＶＤ法による炭素系薄膜の合成;　2007年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第１１回支部大会
  著者;　中村千沙、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• ワンターンリング型アンテナ誘導結合プラズマの空間構造解析;　2007年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第１１回支部大会
  著者;　荒巻和洋、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• マイクロ波電力による紙おむつの炭化処理;　2007年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第１１回支部大会
  著者;　山田竜蔵、浦崎浩史、Sebastian Popescu、三沢達也、大津康徳、藤田寛治、
  
• プロセス用高周波・マイクロ波プラズマ源の開発とその応用;　2007年
  発表情報;　電気学会プラズマ研究会
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、
  
• Production of high-density capacitively discharge plasma with multi-hollow electrode for DLC coating;　2007年
  発表情報;　The 18th Symposium of The Materials Research Society of Japan,
  著者;　Y.Ohtsu, C. Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama, K.Yukimura,
  
• マルチホロー陰極効果を用いた高密度容量結合型プラズマ生成と炭素系薄膜合成;　2007年
  発表情報;　第２３回九州山口プラズマ研究会
  著者;　大津康徳、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、行村　建、
  
• マイクロ波による紙おむつの炭化処理;　2007年
  発表情報;　第１８回廃棄物学会研究発表会
  著者;　山田 竜蔵、浦崎 浩史、セバスチャン ポペスク、三沢 達也、大津 康徳、藤田 寛治
  
• PLASMA TREATMENT OF POLYMER MATERIAL BY DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE WITH MESH ELECTRODE;　2007年
  発表情報;　The 4th International Workshop on Microplasmas
  著者;　Y. Ohtsu, K. Kawaguchi and H. Fujita
  
• PRODUCTION OF DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE MICROPLASMAS AT VARIOUS OXIDES WITH HIGH SECONDARY ELECTRON EMISSION AND HIGH DIELECTRIC CONSTANT;　2007年
  発表情報;　The 4th International Workshop on Microplasmas
  著者;　Y.Ohtsu and H. Fujita
  
• High-density plasma production by capacitively coupled discharge with multi-hollow cathode and secondary electron emission for DLC coating;　2007年
  発表情報;　Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama, T.Tabaru and K.Yukimura,
  
• Preparation of water-repellent film by RF plasma CVD using C2H2F2 gas;　2007年
  発表情報;　Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering
  著者;　Y.Ohtsu, Y.Masuda, S.Yazaki, T.Misawa and H.Fujita
  
• 誘導結合型プラズマスパッタリングによる窒化アルミニウム薄膜合成;　2007年
  発表情報;　第15回電子情報通信学会九州支部学生会講演会
  著者;　樋野幸己、三沢達也**, 大津康徳**, 藤田寛治
  
• Sporicidal effects of oxygen plasma RF plasma;　2006年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部　第10回支部大会
  著者;　D.Vicobeanu, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Spatial structure and potential oscillation in magnetized ICP;　2006年12月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部　第10回支部大会
  著者;　S.Popescu, A.Ishibashi, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• 大気圧バリア放電特性に及ぼす高２次電子放出・強誘電体電極材料の影響;　2006年11月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会第２３回年会
  著者;　○ 大津康徳、山崎尚人、三沢達也、藤田寛治
  
• エネルギーの異なるプラズマイオン交互注入による炭素系硬質薄膜合成;　2006年11月
  発表情報;　プラズマ・核融合学会第２３回年会
  著者;　大津康徳、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人、田原竜夫
  
• 内部リングアンテナ型誘導結合型プラズマの空間構造解析;　2006年11月
  発表情報;　平成１８年度応用物理学会九州支部学術講演会
  著者;　 荒巻和洋、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• ヘリカルアンテナ型誘導結合型磁化プラズマの空間分布測定;　2006年11月
  発表情報;　平成１８年度応用物理学会九州支部学術講演会
  著者;　石橋彰博、Sebastian Popescu、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• マルチホロー電極を用いた高周波プラズマＣＶＤ法による炭素系薄膜合成;　2006年11月
  発表情報;　平成１８年度応用物理学会九州支部学術講演会
  著者;　中村千沙（Ｍ１）、大津康徳、三沢達也、藤田寛治
  
• マルチホロー電極型高周波プラズマＣＶＤによる炭素系薄膜合成の向上;　2006年11月
  発表情報;　第２２回九州山口プラズマ研究会
  著者;　大津康徳、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、秋山守人、行村　建
  
• プラズマプロセシングによる撥水性セラミックス薄膜合成;　2006年10月
  発表情報;　平成１８年度実環境計測・診断システム協議会秋季講演・交流会
  著者;　大津康徳、三沢達也、藤田寛治
  
• Microplasma generation beyond atmospheric pressure by dielectric barrier discharge with high secondary-electron-emission oxides;　2006年10月
  発表情報;　13th Asian Conference on Electrical Discharge
  著者;　○ Y.Ohtsu, K.Eura and H.Fujita
  
• Preparation of diamond-like carbon thin films by alternative implantation of plasma ions with different energies;　2006年10月
  発表情報;　13th Asian Conference on Electrical Discharge
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
  
• Dynamic potential formation in magnetized inductively coupled plasma;　2006年10月
  発表情報;　13th Asian Conference on Electrical Discharge
  著者;　S. Popescu, A. Ishibashi, Y. Ohtsu and H. Fujita
  
• Bacillus spores sterilization using low temperature oxygen plasma;　2006年10月
  発表情報;　13th Asian Conference on Electrical Discharge
  著者;　 D.Vicoveanu（Ｄ２）, Y. Ohtsu, H.Fujita,
  
• 身近な家電・情報機器による電磁波体験型創造性育成教材;　2006年08月
  発表情報;　日本科学教育学会第３０回年会
  著者;　 大津康徳、三沢達也、藤田寛治、馬原俊浩、馬原由美子
  
• Breakdown characteristics of atmospheric pressure microplasma produced by dielectric barrier discharge with high-secondary-electron-emission oxides;　2006年05月
  発表情報;　3rd International Workshop on Microplasmas 2006
  著者;　 Y.Ohtsu, K.Eura and H.Fujita
  
• 電子レンジによる創造性育成教材の開発;　2006年03月
  発表情報;　第５３回応用物理学関係連合講演会
  著者;　○ 大津康徳、三沢達也、藤田寛治、馬原俊浩
  
• 負極性高電圧パルス重畳型高周波プラズマの特性と炭素系薄膜合成;　2006年03月
  発表情報;　第５３回応用物理学関係連合講演会
  著者;　大津康徳、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、秋山守人、西久保桂子
  
• Preparation of ultra-water-repellent films with pulse-modulated capacitively coupled RF plasma using C2H2F2-Ar mixture gases;　2006年
  発表情報;　6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing
  著者;　Y.Ohtsu, S.Yazaki and H.Fujita
  
• Influences of negatively pulse-modulated high-voltage biasing on RF plasma for diamond-like carbon thin film preparation;　2006年
  発表情報;　6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing
  著者;　Y.Ohtsu, C.Nakamura, H.Fujita, M.Akiyama and C.Diplasu
  
• Current-Free Double Layer Formation in a Magnetically Enhanced Inductively Coupled Plasma;　2006年
  発表情報;　6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing
  著者;　Sebastian Popescu, Ilarion Mihaila, Yasunori Ohtsu and Hiroharu Fujita
  
• 誘導結合型プラズマを用いたZrO2薄膜合成に及ぼすＺｒターゲット状態の影響;　2005年
  発表情報;　プラズマ科学シンポジウム２００５／第２２回プラズマプロセシング研究会、名古屋ウィルあいち、2005.1.27, 389-390
  著者;　大津康徳、日野　譲、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人
  
• Ｃ２Ｈ２Ｆ２パルス変調高周波プラズマＣＶＤを用いた超撥水薄膜合成;　2005年
  発表情報;　プラズマ科学シンポジウム２００５／第２２回プラズマプロセシング研究会、名古屋ウィルあいち、2005.1.28, 625-626
  著者;　大津康徳、矢崎伸二、三沢達也、藤田寛治
  
• 反応性プラズマスパッタによるジルコニア薄膜合成に及ぼすイオン衝撃エネルギー効果;　2005年
  発表情報;　第５２回応用物理学関係連合講演会、29p-G-6 埼玉大、2005.3.29
  著者;　大津康徳、日野　譲、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人
  
• 高周波プラズマＣＶＤ法による撥水性薄膜合成に与える基板バイアスの影響;　2005年
  発表情報;　第５２回応用物理学関係連合講演会、29p-G-7 埼玉大、2005.3
  著者;　大津康徳、矢崎伸二、三沢達也、藤田寛治
  
• ＤＬＣ薄膜合成における容量結合型プラズマに及ぼす負極性高電圧パルスバイアスの効果;　2005年
  発表情報;　第６６回応用物理学会学術講演会、7a-ZH-4 徳島大、２００５．９．７
  著者;　大津康徳、野田栄喜、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、秋山守人、西久保桂子、C.Diplasu
  
• 二周波プラズマスパッタリングによる銅イオン生成;　2005年
  発表情報;　第６６回応用物理学会学術講演会、7p-ZH-4 徳島大、２００５．９．７
  著者;　大津康徳、石橋彰博、今村武司、三沢達也、藤田寛治
  
• Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide film prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering;　2005年
  発表情報;　The 8th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition, T3-10 2005.9.19
  著者;　Y.Ohtsu,Y.Hino,T.Misawa, H.Fujita, K.Yukimura and M.Akiyama
  
• Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled RF plasma CVD;　2005年
  発表情報;　The 8th International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition, T3-10 中国成都、2005.9.20
  著者;　Y.Ohtsu, H.Noda, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and C.Diplasu
  
• 二周波スパッタリングを用いた銅イオン源の開発;　2005年
  発表情報;　第１３回電子情報通信学会九州支部学生会講演会、Ａ－２３ 福岡工大、2005.9.28
  著者;　石橋 彰博（Ｍ１）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 誘導結合型磁化プラズマの空間構造解析;　2005年
  発表情報;　第１３回電子情報通信学会九州支部学生会講演会、Ａ－２５ 福岡工大、2005.9.28
  著者;　内岡勇介（Ｍ１）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 酸化物誘電体バリア放電マイクロプラズマの放電開始電圧の低減;　2005年
  発表情報;　第58回電気関係学会九州支部連合大会、04-1A-11 福岡工大、2005.9.29
  著者;　江浦　健（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• バリア放電方式オゾナイザの直列接続による高効率化;　2005年
  発表情報;　第58回電気関係学会九州支部連合大会、02-1P-03 福岡工大、2005.9.29
  著者;　豊福正治、梶原寿了、工藤孝一、大津康徳、藤田寛治
  
• 高周波スパッタリングを用いたNi薄膜の形成とカーボンナノチューブの合成;　2005年
  発表情報;　第58回電気関係学会九州支部連合大会、04-1P-01 福岡工大、2005.9.29
  著者;　大西亮平（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• C2H2F2プラズマCVDを用いた超撥水性薄膜合成における外部パラメータ依存性;　2005年
  発表情報;　第58回電気関係学会九州支部連合大会、04-1P-10 福岡工大、2005.9.29
  著者;　矢崎伸二（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• スパッタリング法を用いたZrO2薄膜合成における成膜速度の向上;　2005年
  発表情報;　第58回電気関係学会九州支部連合大会、04-1P-12 福岡工大、2005.9.29
  著者;　日野　譲（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• メッシュ電極を用いた大気圧バリア放電プラズマの低温化とPET，PP表面改質基礎実;　2005年
  発表情報;　第58回電気関係学会九州支部連合大会、04-1P-13 福岡工大、2005.9.29
  著者;　川口健介（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• パルス高電圧バイアス型高周波プラズマＣＶＤによる機能性ＤＬＣ薄膜合成;　2005年
  発表情報;　第２１回九州・山口プラズマ研究会、III-3 山口大、2005.11.17
  著者;　大津康徳、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、秋山守人
  
• 均一磁界配位における誘導結合型磁化プラズマの空間構造解析;　2005年
  発表情報;　平成１７年度応用物理学会九州支部学術講演会、1Ea-9 福岡工大、2005.11.26
  著者;　内岡勇介（Ｍ１）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 二周波スパッタリングを用いた銅イオン生成;　2005年
  発表情報;　平成１７年度応用物理学会九州支部学術講演会、2Ea-9 福岡工大、2005.11．27
  著者;　石橋彰博（Ｍ１）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 負極性パルス高電圧バイアス型高周波プラズマＣＶＤによる機能性ダイヤモンド状薄膜合成;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会第２２回年会、02aB11P タワーホール船堀、2005.12.2
  著者;　大津康徳、中村千沙、三沢達也、藤田寛治、秋山守人、西久保桂子
  
• Structural modifications of single-wall carbon nanotubes treated by oxygen plasma;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第９回支部大会、P-2 長崎大、2005.12.22
  著者;　C.Miron(M2), Y.Ohtsu, H.Fujita, K.Nishikubo
  
• Potential formation in magnetized inductively coupled plasma;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第９回支部大会、P-27 長崎大、2005.12.22
  著者;　S.Popescu, D.Vicoveanu, Y.Uchioka, Y.Ohtsu, H.Fujita
  
• 二周波プラズマスパッタリングを用いたZrO2薄膜合成に及ぼす酸素ガス濃度の影響;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第９回支部大会、P-28 長崎大、2005.12.22
  著者;　日野　譲(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• メッシュ電極を用いた大気圧バリア放電プラズマによる表面処理;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第９回支部大会、P-30 長崎大、2005.12.22
  著者;　川口健介（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 誘電体バリア放電マイクロプラズマ生成に及ぼす酸化物電極材料の影響;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第９回支部大会、P-31 長崎大、2005.12.22
  著者;　江浦　健（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Ｃ２Ｈ２Ｆ２プラズマＣＶＤによる超撥水性薄膜合成に及ぼすＣ２Ｈ２Ｆ２ガス濃度及び流量の影響;　2005年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会　九州・沖縄・山口支部第９回支部大会、P-32 長崎大、2005.12.22
  著者;　矢崎伸二（Ｍ２）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 陶磁器表面への高機能性酸化ジルコニウム薄膜合成;　2004年
  発表情報;　機能性薄膜の作成と新規表面・界面現象に関するワークショップ（（兼）第９回九州薄膜・表面研究会） 北九州、２００４年６月１９日
  著者;　大津康徳、江上正人、日野　譲、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人
  
• Optimization of oxide electrode materials on high-density plasma production for capacitively coupled plasma;　2004年
  発表情報;　Proc. of The 21Symposium on Plasma Processing
  著者;　大津康徳、島添稔博、三沢達也、藤田寛治
  
• Preparation of zirconium oxide thin film on surface of ceramics using inductively coupled plasma reactive sputtering;　2004年
  発表情報;　Proc. of The 21Symposium on Plasma Processing
  著者;　大津康徳、江上正人、三沢達也、藤田寛治、行村　建
  
• High concentration ozone generation with high dielectric materials using a barrier discharge;　2004年
  発表情報;　Proc. of The 21Symposium on Plasma Processing
  著者;　豊福正治（Ｄ３）、大津康徳、藤田寛治
  
• Preparation of nanoparticles using rf plasma sputtering with two process modes;　2004年
  発表情報;　International workshop on plasma nano-technology and its future vision, P-14
  著者;　Y.Ohtsu, T.Goto, T.Imamura, K.Korenaga, T.Misawa and H.Fujita
  
• Optimization of oxide material electrode for high-density plasma production in capacitively coupled RF discharge;　2004年
  発表情報;　International Symposium on Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, p35
  著者;　Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita
  
• Influence of surface state of sputtering target on ZrO2 thin film preparation;　2004年
  発表情報;　International Symposium on Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, p89
  著者;　Y.Ohtsu, M.Egami, T.Misawa, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and T.Tahara
  
• C2H2F2ガスを用いた高周波プラズマＣＶＤ法による超撥水性薄膜合成;　2004年
  発表情報;　２００４年春季第５１回応用物理学関係連合講演会、28a-G-8 東京、２００４年３月２８日－３１日
  著者;　大津康徳、山上暢久、三沢達也、藤田寛治
  
• 反応性プラズマスパッタリングによる酸化ジルコニウム薄膜合成;　2004年
  発表情報;　２００４年春季第５１回応用物理学関係連合講演会、28p-G-1 東京、２００４年３月２８日－３１日
  著者;　大津康徳、江上正人、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人、田原竜夫
  
• Radio frequency plasma production with external helical antenna in a magnetic field;　2004年
  発表情報;　7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology, 17th Symposium on Plasma Science for Materials, 29P-94, pp.165
  著者;　I.Mihaila(D3), Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Preparation of ultra water-repellent thin films by radio frequency plasma CVD using C2H2F2 gas;　2004年
  発表情報;　7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology, 17th Symposium on Plasma Science for Materials, 30P-22, pp.262
  著者;　Y.Ohtsu, N.Yamagami, S.Yazaki, T.Misawa and H.Fujita
  
• Preparation of zirconium oxide thin film using reactive inductively coupled plasma sputtering;　2004年
  発表情報;　7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology, 17th Symposium on Plasma Science for Materials, 30P-23, p.263
  著者;　Y.Ohtsu, M.Egami, Y.Hino, T.Misawa, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and T.Tabaru
  
• Optimum dielectric constant for high ozone generation with dielectric barrier discharge;　2004年
  発表情報;　7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology, 17th Symposium on Plasma Science for Materials, 01P-47, p401
  著者;　M.Toyofuku(D3), Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• Influence of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge;　2004年
  発表情報;　7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology, 17th Symposium on Plasma Science for Materials, 01P-78, p.432
  著者;　Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita
  
• Investigation of electron density on light emission in mercury-free electrode-less lamp using inductively coupled discharge;　2004年
  発表情報;　7th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology, 17th Symposium on Plasma Science for Materials, 01P-110, p464
  著者;　H.Kashiwazaki, Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• C2H2F2高周波プラズマＣＶＤ法による超撥水性薄膜合成と密着性向上;　2004年
  発表情報;　プラズマ科学のフロンティア2004研究会、No.5 岐阜、２００４年８月19日
  著者;　大津康徳、矢崎伸二、三沢達也、藤田寛治
  
• C2H2F2高周波プラズマＣＶＤ法による超撥水性薄膜合成;　2004年
  発表情報;　２００４年度秋季第６５回応用物理学会学術講演会、3a-N-10 東北、２００４年９月１日―４日
  著者;　大津康徳、矢崎伸二、三沢達也、藤田寛治
  
• 誘導結合型プラズマスパッタリングによる酸化ジルコニウム薄膜合成;　2004年
  発表情報;　２００４年度秋季第６５回応用物理学会学術講演会、3p-N-2 東北、２００４年９月１日-4日
  著者;　大津康徳、日野　譲、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人
  
• ナノパルス高電圧重畳による高周波プラズマ中の炭素系硬質薄膜合成;　2004年
  発表情報;　第57回電気関係学会九州支部連合大会、04-1P-02 鹿児島、２００４年９月２７日
  著者;　槙尾和哉（Ｍ２）、C.Dipulasu、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 高周波誘導結合型プラズマ中のスパッタ超微粒子の粒径制御;　2004年
  発表情報;　第57回電気関係学会九州支部連合大会、04-1P-07 鹿児島、２００４年９月２７日
  著者;　今村武司(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Influence of magnetic field configuration on plasma structure in an inductively discharge;　2004年
  発表情報;　The 2nd International School of Advanced Plasma Technology, Poster2 Italy, 2000年９月２７日－１０月１日
  著者;　H.Fujita, I.Mihaila and Y.Ohtsu
  
• Preparation of zirconium oxide thin film using plasma sputtering for surface coating of ceramics;　2004年
  発表情報;　The 2nd International School of Advanced Plasma Technology, Poster3 Italy, 2000年９月２７日－１０月１日
  著者;　H.Fujita, Y.Ohtsu, Y.Hino, T.Misawa, K.Yukimura and M.Akiyama
  
• C2H2F2ガスを用いた高周波プラズマＣＶＤによる超撥水性薄膜合成とその密着性向上;　2004年
  発表情報;　（社）プラズマ・核融合学会第２１回年会、24aB14P
  著者;　大津康徳、矢崎伸二、三沢達也、藤田寛治
  
• 酸素プラズマスパッタ法による酸化ジルコニウム薄膜合成に及ぼすターゲット状態の影響;　2004年
  発表情報;　（社）プラズマ・核融合学会第２１回年会、24aB15P 静岡、２００４年１１月２３日―２６日
  著者;　藤田寛治、大津康徳、日野　譲、三沢達也、行村　建、秋山守人
  
• プラズマＣＶＤを用いた超撥水性薄膜合成に与える基板バイアス電圧の影響;　2004年
  発表情報;　平成１６年度応用物理学会九州支部学術講演会、27Aa-7 沖縄、２００４年１２月２７日―２８日
  著者;　矢崎伸二(M1)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 反応性プラズマスパッタリングを用いたＺｒＯ２薄膜合成に及ぼす基板入射イオンエネルギーの影響;　2004年
  発表情報;　平成１６年度応用物理学会九州支部学術講演会、27Aa-8 沖縄、２００４年１２月２７日―２８日
  著者;　日野　譲（M1）、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 酸化物誘電体バリア放電を用いた大気圧マイクロプラズマの放電開始電圧の低減 ギーの影響;　2004年
  発表情報;　平成１６年度応用物理学会九州支部学術講演会、27Dp-11 沖縄、２００４年１２月２７日―２８日
  著者;　江浦　健(M1)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• バリア放電を用いた大気圧低温プラズマの生成;　2004年
  発表情報;　平成１６年度応用物理学会九州支部学術講演会、28Da-3 沖縄、２００４年１２月２７日―２８日
  著者;　川口健介(M1)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• ２周波反応性プラズマスパッタリングによるジルコニア薄膜合成に与えるイオン衝撃の効果;　2004年
  発表情報;　The 15th Symposium of The Materials Research Society of Japan, H1-O14
  著者;　大津康徳、日野　譲、三沢達也、藤田寛治、行村　建、秋山守人
  
• C2H2F2容量結合型プラズマＣＶＤ法で合成された撥水性薄膜の水滴接触角制御;　2004年
  発表情報;　The 15th Symposium of The Materials Research Society of Japan,H2-P15
  著者;　大津康徳、矢崎伸二、三沢達也、藤田寛治
  
• 強誘電体を用いたバリア放電によるオゾン生成高効率化;　2003年
  発表情報;　第２０回プラズマプロセシング研究会 長岡、2003年1月29ー31日
  著者;　豊福正治(D2)、大津康徳、藤田寛治
  
• ECRスパッタリングプラズマ中の基板入射イオンエネルギー分布;　2003年
  発表情報;　第２０回プラズマプロセシング研究会 長岡、2003年1月29ー31日
  著者;　大津康徳、藤田寛治、新納厚志、松本　武、三宅正司
  
• 高gamma係数電極を用いた容量結合型放電による高密度プラズマ生成;　2003年
  発表情報;　第５０回応用物理学関係連合講演会 神奈川、2003年3月27ー30日
  著者;　大津康徳、島添稔博、三沢達也、藤田寛治
  
• Instabilities in the Transition Region from CCP to ICP in Electronegative RF Plasma;　2003年
  発表情報;　XXVI International Conference on Phenomena in Ionized Gases Greifswald, Germany, 2003年7月15ー20日
  著者;　I.Mihaila(D3), Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• High-Density Plasma Production with Capacitively Coupled RF Discharge Using High gamma Coefficient Material Electrodes;　2003年
  発表情報;　XXVI International Conference on Phenomena in Ionized Gases Greifswald, Germany, 2003年7月15ー20日
  著者;　 Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita
  
• Ozone Genration with High Dielectric Materials Barrier Discharge in a Parallelp-Plate System;　2003年
  発表情報;　XXVI International Conference on Phenomena in Ionized Gases Greifswald, Germany, 2003年7月15ー20日
  著者;　M.Toyofuku(D2), Y.Ohtsu and H.Fujita
  
• 誘導結合型プラズマスパッタリングによる酸化ジルコニウム薄膜合成;　2003年
  発表情報;　電気学会放電研究会 北海道、2003年8月4-5日
  著者;　大津康徳、江上正人、三沢達也、藤田寛治、行村　建
  
• 酸素誘導結合型プラズマを用いた酸化ジルコニウム薄膜合成;　2003年
  発表情報;　プラズマ科学のフロンティア2003研究会 土岐、2003年8月20日
  著者;　大津康徳、江上正人、三沢達也、藤田寛治、行村　建
  
• 酸化ジルコニウム合成技術の最近の動向と反応性スパッタリング法による ＺｒＯ２薄膜合成ー非平衡プラズマと薄膜技術ー;　2003年
  発表情報;　プラズマと環境処理シンポジウム 千葉、2003年8月21日
  著者;　大津康徳、藤田寛治、行村　建
  
• 容量結合型プラズマ特性に与える酸化物電極材質の影響;　2003年
  発表情報;　第６４回応用物理学会学術講演会 福岡、2003年8月30日ー9月2日
  著者;　大津康徳、島添稔博、三沢達也、藤田寛治
  
• 酸素誘導結合型プラズマスパッタリングによる酸化ジルコニウム薄膜合成;　2003年
  発表情報;　第６４回応用物理学会学術講演会 福岡、2003年8月30日ー9月2日
  著者;　 大津康徳、江上正人、三沢達也、藤田寛治、行村　建
  
• Preparation of Zirconium Oxide Thin Film Using Inductively Coupled Oxygen Plasma Sputtering;　2003年
  発表情報;　13th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams San Antonio,Texas,USA, 2003年9月21-26日
  著者;　Y.Ohtsu, M.Egami, T.Misawa, H.Fujita and K.Yukimura
  
• 誘導結合型プラズマスパッタリングを用いた酸化ジルコニウム薄膜の形成;　2003年
  発表情報;　平成１５年度電気関係学会九州支部連合大会 熊本、2003年9月26ー27日
  著者;　江上正人(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治、行村　建
  
• MgO電極容量結合型プラズマの高密度化に及ぼす導入ガスの影響;　2003年
  発表情報;　平成１５年度電気関係学会九州支部連合大会 熊本、2003年9月26ー27日
  著者;　島添稔博(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 低気圧磁化プラズマにおけるシース二次元構造;　2003年
  発表情報;　平成１５年度電気関係学会九州支部連合大会 熊本、2003年9月26ー27日
  著者;　 中牟田　雄(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 容量結合型プラズマの高密度化に対する電極材質の最適化;　2003年
  発表情報;　第１９回九州山口プラズマ研究会 福岡、2003年11月17-18日
  著者;　大津康徳、島添稔博、三沢達也、藤田寛治
  
• 誘導結合型プラズマスパッタリングを用いた陶磁器表面への酸化ジルコニウム薄膜合成;　2003年
  発表情報;　第１９回九州山口プラズマ研究会 福岡、2003年11月17-18日
  著者;　大津康徳、江上正人、三沢達也、藤田寛治、行村　建
  
• 酸素誘導結合型プラズマによる酸化ジルコニウム薄膜合成;　2003年
  発表情報;　第２０回プラズマ・核融合学会年会 水戸、2003年11月25ー28日
  著者;　 藤田寛治、大津康徳、江上正人、三沢達也、行村　建
  
• 容量結合型放電における高密度プラズマ生成に与える酸化物電極の影響;　2003年
  発表情報;　第２０回プラズマ・核融合学会年会 水戸、2003年11月25ー28日
  著者;　大津康徳、島添稔博、三沢達也、藤田寛治
  
• C2H2F2ガスを用いた高周波プラズマによる超撥水性薄膜の合成;　2003年
  発表情報;　平成１５年度応用物理学会九州支部学術講演会 長崎、2003年12月6日
  著者;　山上暢久(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• Zirconium Oxide Thin Film Preparation Using Oxygen Inductively Coupled Plasma Sputtering;　2003年
  発表情報;　13th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion 土岐,2003年12月9-12日
  著者;　Y.Ohtsu, M.Egami, T.Misawa, H.Fujita and K.Yukimura
  
• High-Density Plasma Production in Capacitively Coupled RF Discharge by Means of Oxide Materials Electrodes;　2003年
  発表情報;　13th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion 土岐,2003年12月9-12日
  著者;　Y.Ohtsu, T.Shimasoe, T.Misawa and H.Fujita
  
• 酸化物電極を用いた容量結合型放電プラズマの高密度化;　2003年
  発表情報;　電気学会放電研究会 京都、2003年12月12ー13日
  著者;　大津康徳、島添稔博、三沢達也、藤田寛治
  
• Energy Distribution Functions of Ions Impacting on DC and RF Biased Substrate in a NeW Type ECR Plasma using Ring Shaped Permanent Magnets;　2003年
  発表情報;　The Third Asia-Pacific International Symposium on the Basic and Application of Plasma Technology 台北、台湾 2003年12月15-17日
  著者;　H.Fujita and Y.Ohtsu
  
• Development of Compact Ozonizer by Barrier Discharge for high concentration ozone generation;　2003年
  発表情報;　The Third Asia-Pacific International Symposium on the Basic and Application of Plasma Technology 台北、台湾,2003年12月15-17日
  著者;　Y.Ohtsu, M.Toyofuku and H.Fujita
  
• ＭｇＯ電極を用いた容量結合型高周波放電に及ぼす導入ガスの影響;　2003年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第７回研究発表講演会 熊本、2003年12月19日
  著者;　島添稔博(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• 低ガス圧下での磁化プラズマにおけるイオンシースの二次元電位構造;　2003年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第７回研究発表講演会 熊本、2003年12月19日
  著者;　中牟田　雄(M2)、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  
• ナノパルス高電圧・高周波ハイブリッドプラズマによる炭素系薄膜合成;　2003年
  発表情報;　プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第７回研究発表講演会 熊本、2003年12月19日
  著者;　槇尾和哉(M1)、C.Diplasu,三沢達也、大津康徳、藤田寛治
  

その他講演

• 佐賀大学プラズマエレクトロニクス研究室の紹介;　2023年12月
  発表情報;　SEMICON JAPAN 2023
  著者;　内田武志、升永龍之介、久野凌平、近藤文太、大津康徳
  
• 佐賀大学理工学部電気電子工学部門プラズマエレクトロニクス研究室紹介;　2022年12月
  発表情報;　SEMICON JAPAN 2022
  著者;　大津康徳、井本将真、内田武志、升永龍之介
  
• リング状ホロー放電を用いた高密度高周波プラズマ源の開発;　2013年01月
  発表情報;　電気学会平成24年度第2回高密度・高電離度金属プラズマの発生と利用技術調査専門委員会、産総研中部センター、平成25年1月30日
  著者;　大津康徳
  
• 科学工作実験指導;　2011年08月
  発表情報;　神埼市土曜塾、千代田中部小学校、2011年8月18日
  著者;　大津康徳
  
• 科学工作実験指導;　2011年08月
  発表情報;　神埼市教員研修会、仁比山小学校、2011年8月29日
  著者;　大津康徳
  
• 平成２２年度アバンセフェスタ、親子で科学「皆で電気を創って使おう」;　2010年08月
  発表情報;　アバンセフェスタ、８月８日午前
  著者;　大津康徳
  
• 紙おむつ・注射器の無害化処理;　2010年02月
  発表情報;　第４回佐賀環境フォーラム・佐賀大学研究プロジェクト合同講演会
  著者;　大津康徳、小野田光翔
  
• ２００９年度リフレッシュ理科教室佐賀会場;　2009年08月
  発表情報;　２００９年８月４日ー５日、アバンセ
  著者;　大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 神崎市内土曜日講座「児童・生徒科学実験教室」;　2009年05月
  発表情報;　日時：２００９年５月２３日ー１２月２６日の土曜日、場所；神崎市内の小中学校、対象：小中学生
  著者;　大津康徳、三沢達也、馬原俊浩
  
• 紙おむつ・注射器の処理装置開発;　2009年02月
  発表情報;　第３回佐賀環境フォーラム・佐賀大学研究プロジェクト合同講演会
  著者;　大津康徳、川下秀輝、浦崎浩史、藤田寛治
  
• 神崎市小中学校理科主任研修会;　2008年08月
  発表情報;　日時：２００８年８月２８日、場所：千代田東部小学校、対象：神崎市内小中学校理科主任
  著者;　大津康徳、三沢達也
  
• 神崎市内土曜日講座「児童・生徒科学実験教室」;　2008年05月
  発表情報;　日時：２００８年５月２４日ー１２月２０日の土曜日、場所；神崎市内の小中学校、対象：小中学生
  著者;　大津康徳、三沢達也、馬原俊浩
  
• 電子レンジや人工雷発生器を使った出前実験;　2008年02月
  発表情報;　日時：２００８年２月１６日、場所：朝日小学校、対象：５年生２クラス
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 発電や発光ダイオードに関する出前授業;　2008年02月
  発表情報;　日時：２００８年２月２２日、場所；千代田中部小学校、対象；５年生１クラス及び理科主任教諭数名
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 発光ダイオードを使った光実験;　2008年02月
  発表情報;　日時：２００８年２月２８日、場所；神崎中学校、対象：２年生
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• 光電池や発光ダイオードを使った出前授業;　2007年11月
  発表情報;　日時：２００７年１１月１６日、場所：桜岡小学校、対象：６年生２クラス
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• ２００７年度リフレッシュ理科教室開催;　2007年08月
  発表情報;　開催日：２００７年８月２日ー３日、開催場所：アバンセ
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也、藤崎寿一
  
• プラズマと科学ープラズマテレビへの利用ー;　2007年06月
  発表情報;　佐賀大学　光・科学技術講座　
  著者;　大津康徳
  

知的財産権の出願等（著作権は除く）

• プラズマ処理装置;　2016年11月
  発表情報;　登録国：日本、登録番号：特許第6030867号、登録日：平成28年10月28日、特許権者：国立大学佐賀大学、神港精機株式会社
  著者;　大津康徳、加々見丈二、川下安司、武内達也
  
• 臭素回収方法およびその装置;　2014年08月
  発表情報;　特許登録番号：5594669号(登録日：2014．8.15)、特許権者：国立大学法人佐賀大学
  著者;　池田　進、大津康徳、三沢達也
  
• プラズマ処理装置;　2012年06月
  発表情報;　出願番号：特願2012-140903、出願日：平成24年6月22日、出願人：国立大学法人佐賀大学、神港精機株式会社
  著者;　大津康徳、加々見丈二、川下安司、竹内達也
  
• 臭素回収方法およびその装置;　2012年05月
  発表情報;　公開番号：特開２０１２ー９７３３４、公開日：平成２４年５月２４日、出願人：国立大学法人佐賀大学
  著者;　池田　進、大津康徳、三沢達也
  
• プラズマ処理装置;　2011年06月
  発表情報;　出願番号：特願2011-140435,出願日：平成23年6月24日,出願人：国立大学法人佐賀大学、神港精機株式会社、
  著者;　大津康徳、加々見丈二、川下安司、竹内達也
  
• 臭素回収方法およびその装置;　2010年11月
  発表情報;　特願2010-247477
  著者;　池田　進、大津康徳、三沢達也
  
• オゾン発生方法および装置;　2003年
  発表情報;　特許出願：２００３－２７６７２２ 特許公開：２００５－３５８５５
  著者;　藤田寛治、豊福正治 、大津康徳
  

招待講演・特別講演（学会シンポジウム等での講演を含む）

• Design of rotational RF magnetron sputtering plasma and its characteristics for target utilization saving resources;　2023年10月
  発表情報;　76th Annual Gaseous Electronics Conference, Bulletin of the American Physical Society (2023), Michigan,, HT1.1
  著者;　Yasunori Otsu, Md. Amzad Hossain, Julian Schulze
  
• 円筒対向ターゲットを用いたリング状磁化スパッタ装置の開発とAZO薄膜合成;　2023年01月
  発表情報;　日本表面真空学会　スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会　第１７３回定例研究会「低ダメージ・低温スパッタによる成膜技術」, 37, 3, 1-10
  著者;　大津康徳
  
• Plasma fundamentals and its application for material processing;　2017年01月
  発表情報;　Special lecture in Rajshahi University of Engineering and Technology, Bangladesh, Jan. 26, 2017
  著者;　Md. Amzad Hossain and Yasunori Ohtsu
  
• Production of plasma sources by capacitively coupled discharge plasma(CCP) for functional thin film preparation;　2015年12月
  発表情報;　Special lecture on Plasma Physics and Technology, West Virginia University, USA
  著者;　Yasunori Ohtsu
  
• High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing;　2011年10月
  発表情報;　4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something(Plasas-4),October 8-10,2011,Beijing,China
  著者;　大津康徳
  
• プラズマによる機能性薄膜合成～撥水性膜～;　2011年03月
  発表情報;　M& M(Materials & Mechanics)研究会
  著者;　大津康徳
  
• リフレッシュ理科教室（佐賀会場）の活動報告;　2007年
  発表情報;　"平成１９年度応用物理学会九州支部学術講演会ミニセッションーリフレッシュ理科教室を考える —九州支部活動の新しい展開を目指して—"
  著者;　大津康徳、三沢達也、藤崎寿一、藤田寛治
  
• 佐賀での「リフレッシュ理科教室」ー７００人が参加する「体験型」理科教室ー;　2006年
  発表情報;　平成１９年度春季第５４回応用物理学関係連合講演会シンポジウム「リフレッシュ理科教室」開催して１０年が経過ー実施状況と抱える問題を考えるー
  著者;　藤田寛治、大津康徳、三沢達也
  
• 高周波スパッタによる炭素微粒子合成と成長過程;　2006年
  発表情報;　"日本真空協会スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会（SP部会） 第102回定例研究会 テーマスパッタリングをめぐる技術"
  著者;　大津康徳、藤田寛治
  
• 半導体プロセス関連企業技術ニーズ課題に対するコメント;　2005年06月
  発表情報;　第２回半導体プロセス研究会、２００５年（平成１７年）６月２７日、産業技術総合研究所九州センター福岡サイト
  著者;　大津康徳
  
• 陶磁器表面への高機能性酸化ジルコニウム薄膜合成;　2004年06月
  発表情報;　機能性薄膜の作製と新規表面・界面現象に関するワークショップ (（兼）第９回九州薄膜・表面研究会) 場所：九州工業大学工学部 （戸畑キャンパス） 総合研究棟
  著者;　大津康徳、 江上正人, 日野 譲, 三沢達也, 藤田寛治, 行村 建, 秋山守人