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Criteria of radio-frequency ring-shaped hollow cathode discharge using H2 and Ar gases for plasma processing

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2013年01月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu and Y.Kawasaki
題名：
Criteria of radio-frequency ring-shaped hollow cathode discharge using H2 and Ar gases for plasma processing
発表情報：
J.Appl.Phys. 巻: 113 号: 3 ページ: 033302-1-033302-5
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu and Y.Kawasaki
Title：
Criteria of radio-frequency ring-shaped hollow cathode discharge using H2 and Ar gases for plasma processing
Announcement information:
J.Appl.Phys. Vol: 113 Issue: 3 Page: 033302-1-033302-5

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