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Characteristics of Novel Rotational Magnetron Sputtering Plasma Sources with Various Magnet Arrangements for Target Utilization Saving Resources

発表形態：
著書
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2022年10月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu, M. Amzad Hossain and J. Schulze
題名：
Characteristics of Novel Rotational Magnetron Sputtering Plasma Sources with Various Magnet Arrangements for Target Utilization Saving Resources
発表情報：
Advances in Materials Science Research, edited by M.C. Wythers, Nova Science Publishers, New York, 2022 巻: 56 号: Chapter 5 ページ: 243-272
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu, M. Amzad Hossain and J. Schulze
Title：
Characteristics of Novel Rotational Magnetron Sputtering Plasma Sources with Various Magnet Arrangements for Target Utilization Saving Resources
Announcement information:
Advances in Materials Science Research, edited by M.C. Wythers, Nova Science Publishers, New York, 2022 Vol: 56 Issue: Chapter 5 Page: 243-272

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