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Preparation of zirconium oxide thin film using inductively coupled oxygen plasma sputtering

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2005年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Ohtsu, Y / Egami, M / Fujita, H / Yukimura, K
題名：
Preparation of zirconium oxide thin film using inductively coupled oxygen plasma sputtering
発表情報：
SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY 巻: 196 号: 1/3 ページ: 81-84
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Ohtsu, Y / Egami, M / Fujita, H / Yukimura, K
Title：
Preparation of zirconium oxide thin film using inductively coupled oxygen plasma sputtering
Announcement information:
SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY Vol: 196 Issue: 1/3 Page: 81-84

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