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Annular profile of dust density near RF powered electrode in a capacitively coupled plasma

発表形態：: 原著論文
主要業績：: 主要業績
単著・共著：: 共著
発表年月：: 2002年04月

DOI：
会議属性：
査読：: 有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：

Y.Ohtsu and H.Fujita,

題名：

Annular profile of dust density near RF powered electrode in a capacitively coupled plasma

発表情報：

Jpn.J.Appl.Phys. 巻: 41 号: 4 ページ: 2195-2198

キーワード：

Annular profile, dust particle, capacitively coupled plasma

概要：

微粒子を容量結合型高周波プラズマ中に導入すると微粒子は負に帯電し、高周波電極近傍に円環状に分布することを明らかにした。微粒子の浮遊機構は、高周波電極シース電界に起因した微粒子に働く静電気力とイオン粘性力とのバランスであることがわかった。更に、微粒子の円環状の分布は高周波電極シースに強く依存することも明らかとなった。

抄録：

英語フィールド

Author：

Y.Ohtsu and H.Fujita,

Title：

Annular profile of dust density near RF powered electrode in a capacitively coupled plasma

Announcement information:

Jpn.J.Appl.Phys. Vol: 41 Issue: 4 Page: 2195-2198

Keyword：

Annular profile, dust particle, capacitively coupled plasma