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Energy Distribution of Ions Incident onto a Dc-Biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Sputtering Plasma for SrTiO~3 Thin Film Preparation

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2004年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Ohtsu, Y / Fujita, H / Niino, A / Matsumoto, T / Miyake, S
題名：
Energy Distribution of Ions Incident onto a Dc-Biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Sputtering Plasma for SrTiO~3 Thin Film Preparation
発表情報：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS 巻: 43 号: 1 ページ: 328-331
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Ohtsu, Y / Fujita, H / Niino, A / Matsumoto, T / Miyake, S
Title：
Energy Distribution of Ions Incident onto a Dc-Biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Sputtering Plasma for SrTiO~3 Thin Film Preparation
Announcement information:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS Vol: 43 Issue: 1 Page: 328-331

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