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Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2009年09月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu, N.Wada, T.Misawa and H.Fujita
題名：
Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing
発表情報：
Abstract of 16th International Conference of Surface Modification of Materials by Ion Beams PC-56 ページ: 222-222
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu, N.Wada, T.Misawa and H.Fujita
Title：
Preparation of Water-Repellent Thin Film with Inductive Plasma using C2H2F2/Ar gases and Investigation of Its Adhesion by Positively Pulse-Biasing
Announcement information:
Abstract of 16th International Conference of Surface Modification of Materials by Ion Beams PC-56 Page: 222-222

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