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Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2011年04月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu, K.Hino, T.Misawa, M.Akiyama and K.Yukimura
題名：
Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films
発表情報：
Trans. Mater. Res. Soc. Jpn, 巻: 36 号: 1 ページ: 99-102
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu, K.Hino, T.Misawa, M.Akiyama and K.Yukimura
Title：
Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films
Announcement information:
Trans. Mater. Res. Soc. Jpn, Vol: 36 Issue: 1 Page: 99-102

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