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Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2007年
DOI:
会議属性:
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Y.Ohtsu, H.Noda, C.Nakamura, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and C.Diplasu
題名:
Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition
発表情報:
Surf. Coat. Tehcnol. 巻: 201 ページ: 6674-6677
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Y.Ohtsu, H.Noda, C.Nakamura, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and C.Diplasu
Title:
Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition
Announcement information:
Surf. Coat. Tehcnol. Vol: 201 Page: 6674-6677


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