教員活動データベース

Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

発表形態：: 原著論文
主要業績：: 主要業績
単著・共著：: 共著
発表年月：: 2007年

DOI：
会議属性：
査読：: 有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：

Y.Ohtsu, H.Noda, C.Nakamura, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and C.Diplasu

題名：

Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

発表情報：

Surf. Coat. Tehcnol. 巻: 201 ページ: 6674-6677

キーワード：

概要：

抄録：

英語フィールド

Author：

Y.Ohtsu, H.Noda, C.Nakamura, H.Fujita, K.Yukimura, M.Akiyama and C.Diplasu

Title：

Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

Announcement information:

Surf. Coat. Tehcnol. Vol: 201 Page: 6674-6677