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High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing

発表形態:
招待講演・特別講演(学会シンポジウム等での講演を含む)
主要業績:
主要業績
単著・共著:
単著
発表年月:
2011年10月
DOI:
会議属性:
国際会議(国内開催を含む)
査読:
無し
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
大津康徳
題名:
High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing
発表情報:
4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something(Plasas-4),October 8-10,2011,Beijing,China
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Y.Ohtsu
Title:
High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing
Announcement information:
4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something(Plasas-4),October 8-10,2011,Beijing,China


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