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High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing

発表形態：
招待講演・特別講演（学会シンポジウム等での講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
単著
発表年月：
2011年10月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
大津康徳
題名：
High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing
発表情報：
4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something(Plasas-4),October 8-10,2011,Beijing,China
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu
Title：
High-density RF plasma by hollow cathode for plasma processing
Announcement information:
4st International Workshop on Plasma Scientech for All Something(Plasas-4),October 8-10,2011,Beijing,China

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