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Production of High-Density RF Plasma Using Ring-Shaped Hollow Cathode for Material Processing

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
単著
発表年月：
2013年06月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu
題名：
Production of High-Density RF Plasma Using Ring-Shaped Hollow Cathode for Material Processing
発表情報：
5th International Workshop on Plasma Scientech for All Something (PLASAS-5), June 21 – 23, 2013, Tokyo Institute of Technology, Japan
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu
Title：
Production of High-Density RF Plasma Using Ring-Shaped Hollow Cathode for Material Processing
Announcement information:
5th International Workshop on Plasma Scientech for All Something (PLASAS-5), June 21 – 23, 2013, Tokyo Institute of Technology, Japan

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