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Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2017年11月
DOI:
10.1116/1.4999221
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Tsubasa Ide, Md. Amzad Hossain, Yutaro Nakamura and Yasunori Ohtsu
題名:
Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization
発表情報:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 巻: 35 ページ: 061312(6pp)
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Tsubasa Ide, Md. Amzad Hossain, Yutaro Nakamura and Yasunori Ohtsu
Title:
Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization
Announcement information:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films Vol: 35 Page: 061312(6pp)


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