ホーム > 研究者プロファイル

Development of Novel RF Sputtering Plasma Source and Preparation of Al-Doped ZnO Thin Films for Transparent Conductive Oxide Applications

発表形態:
著書
主要業績:
主要業績
単著・共著:
分担執筆の共著
発表年月:
2019年09月
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:
x


Copyright © MEDIA FUSION Co.,Ltd. All rights reserved.