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Development of Novel RF Sputtering Plasma Source and Preparation of Al-Doped ZnO Thin Films for Transparent Conductive Oxide Applications

発表形態：
著書
主要業績：
主要業績
単著・共著：
分担執筆の共著
発表年月：
2019年09月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Yasunori Ohtsu and Takashi Sumiyama
題名：
Development of Novel RF Sputtering Plasma Source and Preparation of Al-Doped ZnO Thin Films for Transparent Conductive Oxide Applications
発表情報：
ZnO Thin Films: Properties, Performance and Applications, Chapter 6, NOVA Science Publishers, editor Paolo Mele ページ: 193-208
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Yasunori Ohtsu and Takashi Sumiyama
Title：
Development of Novel RF Sputtering Plasma Source and Preparation of Al-Doped ZnO Thin Films for Transparent Conductive Oxide Applications
Announcement information:
ZnO Thin Films: Properties, Performance and Applications, Chapter 6, NOVA Science Publishers, editor Paolo Mele Page: 193-208

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