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Optimization of oxide material electrode for high-density plasma production in capacitively coupled RF discharge

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2004年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita
題名：
Optimization of oxide material electrode for high-density plasma production in capacitively coupled RF discharge
発表情報：
International Symposium on Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, p35
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita
Title：
Optimization of oxide material electrode for high-density plasma production in capacitively coupled RF discharge
Announcement information:
International Symposium on Novel Materials Processing by Advanced Electromagnetic Energy Sources, p35

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