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Development of high-density radio frequency plasma source with a ring-shaped trench hollow electrode for dry processing

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2010年08月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu and H.Urasaki
題名：
Development of high-density radio frequency plasma source with a ring-shaped trench hollow electrode for dry processing
発表情報：
Plasma Sources Science and Technology 巻: 19 号: 4 ページ: 045012-1-045012-6
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu and H.Urasaki
Title：
Development of high-density radio frequency plasma source with a ring-shaped trench hollow electrode for dry processing
Announcement information:
Plasma Sources Science and Technology Vol: 19 Issue: 4 Page: 045012-1-045012-6

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