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High-density radio-frequency magnetized plasma sputtering source with rotational square-shaped arrangement of rod magnets for uniform target utilization

発表形態：: 原著論文
主要業績：: 主要業績
単著・共著：: 共著
発表年月：: 2016年04月

DOI：: 10.1016/j.vacuum.2016.03.035
会議属性：: 指定なし
査読：: 有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：

Md. Amzad Hossain, T. Ide, K. Ikari, Y. Ohtsu

題名：

High-density radio-frequency magnetized plasma sputtering source with rotational square-shaped arrangement of rod magnets for uniform target utilization

発表情報：

Vacuum 巻: 128 ページ: 219-225

キーワード：

概要：

抄録：

英語フィールド

Author：

Md. Amzad Hossain, T. Ide, K. Ikari, Y. Ohtsu

Title：

High-density radio-frequency magnetized plasma sputtering source with rotational square-shaped arrangement of rod magnets for uniform target utilization

Announcement information:

Vacuum Vol: 128 Page: 219-225