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Production of a high-density hydrogen plasma in a capacitively coupled RF discharge with a hollow cathode enclosed by magnets

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2024年05月
DOI:
10.1116/6.0003448
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Yasunori Ohtsu, Takeshi Uchida, Ryohei Kuno and Julian Schulze
題名:
Production of a high-density hydrogen plasma in a capacitively coupled RF discharge with a hollow cathode enclosed by magnets
発表情報:
J. Vac. Sci. Technol. A 巻: 42 号: 3 ページ: 033011
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Yasunori Ohtsu, Takeshi Uchida, Ryohei Kuno and Julian Schulze
Title:
Production of a high-density hydrogen plasma in a capacitively coupled RF discharge with a hollow cathode enclosed by magnets
Announcement information:
J. Vac. Sci. Technol. A Vol: 42 Issue: 3 Page: 033011


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