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Time-Averaged Energy Distribution Function of Ions Impacted on an RF-biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2003年
DOI:
会議属性:
査読:
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Ohtsu, Y / Yoshinaga, K / Fujita, H
題名:
Time-Averaged Energy Distribution Function of Ions Impacted on an RF-biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma
発表情報:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS 巻: 42 号: 12 ページ: 7552-7556
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Ohtsu, Y / Yoshinaga, K / Fujita, H
Title:
Time-Averaged Energy Distribution Function of Ions Impacted on an RF-biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma
Announcement information:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS Vol: 42 Issue: 12 Page: 7552-7556


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