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Atmospheric-pressure plasma jet system for silicon etching without fluorocarbon gas feed

著者：

Yasunori Ohtsu and Kenta Nagamatsu

題名：

発表情報：

Japanese Journal of Applied Physics, (2018) 巻: 57 号: 1 ページ: 01AB01-1-4

キーワード：

概要：

抄録：

Author：

Yasunori Ohtsu and Kenta Nagamatsu

Title：

Atmospheric-pressure plasma jet system for silicon etching without fluorocarbon gas feed

Announcement information:

Japanese Journal of Applied Physics, (2018) Vol: 57 Issue: 1 Page: 01AB01-1-4