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Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2007年
DOI:
会議属性:
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Y.Ohtsu,Y.Hino, H.Fujita, K.Yukimura and M.Akiyama
題名:
Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering
発表情報:
Surf. Coat. Technol. 巻: 201 ページ: 6627-6630
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Y.Ohtsu,Y.Hino, H.Fujita, K.Yukimura and M.Akiyama
Title:
Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering
Announcement information:
Surf. Coat. Technol. Vol: 201 Page: 6627-6630


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