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Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2007年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu,Y.Hino, H.Fujita, K.Yukimura and M.Akiyama
題名：
Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering
発表情報：
Surf. Coat. Technol. 巻: 201 ページ: 6627-6630
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu,Y.Hino, H.Fujita, K.Yukimura and M.Akiyama
Title：
Influence of ion-bombardment-energy on thin zirconium oxide films prepared by dual frequency oxygen plasma sputtering
Announcement information:
Surf. Coat. Technol. Vol: 201 Page: 6627-6630

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