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Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2017年09月
DOI:
10.1007/s11090-017-9847-1
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Md. Amzad Hossain, Yasunori Ohtsu and Tatsuo Tabaru
題名:
Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing
発表情報:
Plasma Chem Plasma Process,(2017). 巻: 37 号: 6 ページ: 1663-1677
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Md. Amzad Hossain, Yasunori Ohtsu and Tatsuo Tabaru
Title:
Performance of a Gyratory Square-Shaped Capacitive Radio Frequency Discharge Plasma Sputtering Source for Materials Processing
Announcement information:
Plasma Chem Plasma Process,(2017). Vol: 37 Issue: 6 Page: 1663-1677


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