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Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2006年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
"Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita"
題名：
Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge
発表情報：
Thin Solid Films 巻: 506-507 ページ: 545-549
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
"Y.Ohtsu, T.Shimazoe, T.Misawa and H.Fujita"
Title：
Influences of oxide material on high density plasma production using capacitively coupled discharge
Announcement information:
Thin Solid Films Vol: 506-507 Page: 545-549

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