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Production of high-density capacitively coupled radio-frequency discharge plasma by high-secondary-electron-emission oxide

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2004年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Ohtsu, Y / Fujita, H
題名：
Production of high-density capacitively coupled radio-frequency discharge plasma by high-secondary-electron-emission oxide
発表情報：
APPLIED PHYSICS LETTERS 巻: 85 号: 21 ページ: 4875-4877
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Ohtsu, Y / Fujita, H
Title：
Production of high-density capacitively coupled radio-frequency discharge plasma by high-secondary-electron-emission oxide
Announcement information:
APPLIED PHYSICS LETTERS Vol: 85 Issue: 21 Page: 4875-4877

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