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Influence of oxygen flow rate and substrate positions on properties of Cu-oxide thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering using pure Cu target

発表形態:
原著論文
主要業績:
その他
単著・共著:
共著
発表年月:
2019年04月
DOI:
10.1016/j.tsf.2019.02.026
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Patwary, M.A.M., Saito, K., Guo, Q., Tanaka, T.
題名:
Influence of oxygen flow rate and substrate positions on properties of Cu-oxide thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering using pure Cu target
発表情報:
Thin Solid Films 巻: 675 ページ: 59-65
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Patwary, M.A.M., Saito, K., Guo, Q., Tanaka, T.
Title:
Influence of oxygen flow rate and substrate positions on properties of Cu-oxide thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering using pure Cu target
Announcement information:
Thin Solid Films Vol: 675 Page: 59-65


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