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Growth of GaInN films on silicon substrates by reactive sputtering

発表形態:
一般講演(学術講演を含む)
主要業績:
その他
単著・共著:
単著
発表年月:
2013年07月
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Q. Guo, T. Nakao, T. Ushijima, K. Saito, T. Tanaka, M. Nishio
題名:
Growth of GaInN films on silicon substrates by reactive sputtering
発表情報:
The 12th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kyoto Research Park, July 10-12, 2013, TF P1-1.
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Q. Guo, T. Nakao, T. Ushijima, K. Saito, T. Tanaka, M. Nishio
Title:
Growth of GaInN films on silicon substrates by reactive sputtering
Announcement information:
The 12th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kyoto Research Park, July 10-12, 2013, TF P1-1.


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