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Fundamental properties of sputtered InGaN films

発表形態:
一般講演(学術講演を含む)
主要業績:
その他
単著・共著:
共著
発表年月:
2011年07月
DOI:
会議属性:
国際会議(国内開催を含む)
査読:
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Q. X. Guo, H. Senda, K. Saito, T. Tanaka, M. Nishio, J. Ding, T. Fan, and D. Zhang
題名:
Fundamental properties of sputtered InGaN films
発表情報:
The Eleventh International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, July 6-8, 2011, Kyoto, Japan, TF P1-20.
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Q. X. Guo, H. Senda, K. Saito, T. Tanaka, M. Nishio, J. Ding, T. Fan, and D. Zhang
Title:
Fundamental properties of sputtered InGaN films
Announcement information:
The Eleventh International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, July 6-8, 2011, Kyoto, Japan, TF P1-20.


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