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Growth of boron-doped ZnTe homoepitaxial layer by metalorganic vapor phase epitaxy

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2006年
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
K. Saito, T. Yamashita, T. Tanaka, M. Nishio,Q. Guo, and H. Ogawa
題名:
Growth of boron-doped ZnTe homoepitaxial layer by metalorganic vapor phase epitaxy
発表情報:
physica status solidi (c) 巻: 3 号: 4 ページ: 833-836
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
K. Saito, T. Yamashita, T. Tanaka, M. Nishio,Q. Guo, and H. Ogawa
Title:
Growth of boron-doped ZnTe homoepitaxial layer by metalorganic vapor phase epitaxy
Announcement information:
physica status solidi (c) Vol: 3 Issue: 4 Page: 833-836


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