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Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas

発表形態:
原著論文
主要業績:
その他
単著・共著:
共著
発表年月:
2005年08月
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
T. Tanaka, Y. Kume, K. Hayashida, K. Saito, M. Nishio, Q. Guo, and H. Ogawa
題名:
Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas
発表情報:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B 巻: 238 号: 1-4 ページ: 115-118
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
T. Tanaka, Y. Kume, K. Hayashida, K. Saito, M. Nishio, Q. Guo, and H. Ogawa
Title:
Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas
Announcement information:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B Vol: 238 Issue: 1-4 Page: 115-118


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