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Low Temperature Growth and Characteristics of GaInN Films by Reactive Sputtering

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2024年07月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Qixin Guo, Kotaro Nonaka, Katsuhiko Saito, and Tooru Tanaka
題名：
Low Temperature Growth and Characteristics of GaInN Films by Reactive Sputtering
発表情報：
The 17th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, 02-05 July 2024, KRP Kyoto, P3-06, 17:40-19:10, July 3.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Qixin Guo, Kotaro Nonaka, Katsuhiko Saito, and Tooru Tanaka
Title：
Low Temperature Growth and Characteristics of GaInN Films by Reactive Sputtering
Announcement information:
The 17th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, 02-05 July 2024, KRP Kyoto, P3-06, 17:40-19:10, July 3.

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