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Impact of Radio Frequency Powers on GaInN Film Growth by Magnetron Reactive Sputtering

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2012年11月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Qixin GUO, Wangzhou SHI, Feng LIU,Tomoya NAKAO, Katsuhiko SAITO, Tooru TANAKA, and Mitsuhiro NISHIO
題名：
Impact of Radio Frequency Powers on GaInN Film Growth by Magnetron Reactive Sputtering
発表情報：
Japanese Journal of Applied Physics, 51 (2012) 118004.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Qixin GUO, Wangzhou SHI, Feng LIU,Tomoya NAKAO, Katsuhiko SAITO, Tooru TANAKA, and Mitsuhiro NISHIO
Title：
Impact of Radio Frequency Powers on GaInN Film Growth by Magnetron Reactive Sputtering
Announcement information:
Japanese Journal of Applied Physics, 51 (2012) 118004.

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