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Fundamental properties of sputtered InGaN films

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2011年07月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Q. X. Guo, H. Senda, K. Saito, T. Tanaka, M. Nishio, J. Ding, T. Fan, and D. Zhang
題名：
Fundamental properties of sputtered InGaN films
発表情報：
The Eleventh International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Kyoto Research Park, July 6-8, 20011, Kyoto, Japan. TF P1-20.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Q. X. Guo, H. Senda, K. Saito, T. Tanaka, M. Nishio, J. Ding, T. Fan, and D. Zhang
Title：
Fundamental properties of sputtered InGaN films
Announcement information:
The Eleventh International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, Kyoto Research Park, July 6-8, 20011, Kyoto, Japan. TF P1-20.

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