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Properties of InGaN Films Grown by Reactive Sputtering

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2010年08月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Qixin GUO, Yuta KUSUNOKI, Yaliu DING, Tooru TANAKA, and Mitsuhiro NISHIO
題名：
Properties of InGaN Films Grown by Reactive Sputtering
発表情報：
Japanese Journal of Applied Physics, 49, 081203-1-4, 2010.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Qixin GUO, Yuta KUSUNOKI, Yaliu DING, Tooru TANAKA, and Mitsuhiro NISHIO
Title：
Properties of InGaN Films Grown by Reactive Sputtering
Announcement information:
Japanese Journal of Applied Physics, 49, 081203-1-4, 2010.

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