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Properties of InGaN Films Grown by Reactive Sputtering

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2010年08月
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Qixin GUO, Yuta KUSUNOKI, Yaliu DING, Tooru TANAKA, and Mitsuhiro NISHIO
題名:
Properties of InGaN Films Grown by Reactive Sputtering
発表情報:
Japanese Journal of Applied Physics, 49, 081203-1-4, 2010.
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Qixin GUO, Yuta KUSUNOKI, Yaliu DING, Tooru TANAKA, and Mitsuhiro NISHIO
Title:
Properties of InGaN Films Grown by Reactive Sputtering
Announcement information:
Japanese Journal of Applied Physics, 49, 081203-1-4, 2010.


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