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Effects of growth parameters on surface roughness of RF magnetron sputtered Al films

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2009年07月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Q. Guo, Y. Matsushima, Y. Ding, T. Tanaka, M. Nishio,
題名：
Effects of growth parameters on surface roughness of RF magnetron sputtered Al films
発表情報：
The 10th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kanazawa, July 8-10, 2009, TF P3-11.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Q. Guo, Y. Matsushima, Y. Ding, T. Tanaka, M. Nishio,
Title：
Effects of growth parameters on surface roughness of RF magnetron sputtered Al films
Announcement information:
The 10th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes, Kanazawa, July 8-10, 2009, TF P3-11.

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