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Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
単著
発表年月:
2005年
DOI:
会議属性:
査読:
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO and Hiroshi OGAWA
題名:
Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing
発表情報:
Japanese Journal of Applied Physics, 44, L863-L865 (2005).
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO and Hiroshi OGAWA
Title:
Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing
Announcement information:
Japanese Journal of Applied Physics, 44, L863-L865 (2005).


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