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Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
単著
発表年月：
2005年
DOI：
会議属性：
査読：
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO and Hiroshi OGAWA
題名：
Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing
発表情報：
Japanese Journal of Applied Physics, 44, L863-L865 (2005).
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO and Hiroshi OGAWA
Title：
Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing
Announcement information:
Japanese Journal of Applied Physics, 44, L863-L865 (2005).

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