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Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2005年
DOI：
会議属性：
査読：
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Guo, Q. X / Yoshitugu, M / Tanaka, T / Nishio, M / Ogawa, H
題名：
Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering
発表情報：
THIN SOLID FILMS 巻: 483 号: 1/2 ページ: 16-20
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Guo, Q. X / Yoshitugu, M / Tanaka, T / Nishio, M / Ogawa, H
Title：
Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering
Announcement information:
THIN SOLID FILMS Vol: 483 Issue: 1/2 Page: 16-20

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