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Characteristics of Reactive Ion Etching for Zinc Telluride Using CH4 and H2 Gases

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2001年
DOI：
会議属性：
査読：
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Qixin Guo, Motoatsu Matsuse, Tooro Tanaka, Mitsuhiro Nishio, Hiroshi Ogawa, Y. Chang, J. Wang, S.L. Wang
題名：
Characteristics of Reactive Ion Etching for Zinc Telluride Using CH4 and H2 Gases
発表情報：
Journal of Vacuum Science and Technology A 19, 2232-2234 (2001)
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Qixin Guo, Motoatsu Matsuse, Tooro Tanaka, Mitsuhiro Nishio, Hiroshi Ogawa, Y. Chang, J. Wang, S.L. Wang
Title：
Characteristics of Reactive Ion Etching for Zinc Telluride Using CH4 and H2 Gases
Announcement information:
Journal of Vacuum Science and Technology A 19, 2232-2234 (2001)

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