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SiC上エピタキシャルグラフェンの占有・非占有電子状態の研究
発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2013年06月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
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日本語フィールド
著者：
穴見峻平、高橋和敏、今村真幸、山本勇、東純平、鎌田雅夫
題名：
SiC上エピタキシャルグラフェンの占有・非占有電子状態の研究
発表情報：
平成25年度九州表面・真空研究会2013（兼第18回九州薄膜表面研究会)
キーワード：
概要：
抄録：
英語フィールド
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