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ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発

発表形態：
招待講演・特別講演（学会シンポジウム等での講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2022年01月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
嘉数 誠、金 聖祐
題名：
ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発
発表情報：
独立行政法人　日本学術振興会　第R032委員会　第5回研究会
キーワード：
概要：
ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発
抄録：
ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発

英語フィールド

Author：
嘉数 誠、金 聖祐
Title：
ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発
Announcement information:
独立行政法人　日本学術振興会　第R032委員会　第5回研究会
An abstract：
ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発
An abstract：
ステップフローを用いたダイヤモンド2インチ径ヘテロウェハ成長と選択ドーピングしたダイヤモンドFETの開発

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