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Fabrication of diamond modulation-doped FETs by NO2 delta doping in an Al2 O3 gate layer

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2021年04月
DOI:
https://doi.org/10.35848/1882-0786/abf445
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Makoto Kasu, Niloy Chandra Saha, Toshiyuki Oishi, and Seong-Woo Kim
題名:
Fabrication of diamond modulation-doped FETs by NO2 delta doping in an Al2 O3 gate layer
発表情報:
Appl. Phys. Express 14, 051004 (2021). 巻: 14 ページ: 051004
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Makoto Kasu, Niloy Chandra Saha, Toshiyuki Oishi, and Seong-Woo Kim
Title:
Fabrication of diamond modulation-doped FETs by NO2 delta doping in an Al2 O3 gate layer
Announcement information:
Appl. Phys. Express 14, 051004 (2021). Vol: 14 Page: 051004


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