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NO2吸着・水素終端ダイヤモンド／ALD成長Al2O3界面の放射光XPS/UPSによる電子状態評価

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2013年11月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
嘉数 誠，高橋 和敏，今村 真幸，平間 一行
題名：
NO2吸着・水素終端ダイヤモンド／ALD成長Al2O3界面の放射光XPS/UPSによる電子状態評価
発表情報：
表面科学会学術講演会
キーワード：
ダイヤ表面
概要：
NO2吸着・水素終端ダイヤモンド／ALD成長Al2O3界面の放射光XPS/UPSによる電子状態評価を行った
抄録：
NO2吸着・水素終端ダイヤモンド／ALD成長Al2O3界面の放射光XPS/UPSによる電子状態評価を行った

英語フィールド

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