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著者:K. Ueda and M. Kasu題名:High temperature operation of boron-implanted diamond field-effect transistors発表情報:Jpn. J. Appl. Phys. 巻: 49 ページ: 04DF16キーワード:概要:抄録:英語フィールド
Author:K. Ueda and M. KasuTitle:High temperature operation of boron-implanted diamond field-effect transistorsAnnouncement information:Jpn. J. Appl. Phys. Vol: 49 Page: 04DF16