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フェニル基終端Siナノクラスターの電子状態
発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2011年06月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
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日本語フィールド
著者：
今村真幸、藤正修司、保田英洋、高橋和敏、鎌田雅夫、小林宏成、根岸雄一
題名：
フェニル基終端Siナノクラスターの電子状態
発表情報：
平成23年度 九州表面・真空研究会2011
キーワード：
概要：
抄録：
英語フィールド
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