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フェニル基終端Siナノクラスターの電子構造
発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2011年09月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
有り
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日本語フィールド
著者：
今村真幸，藤正修司，保田英洋，上田茂典，小林啓介，高橋和敏，鎌田雅夫，小林宏成，根岸雄一
題名：
フェニル基終端Siナノクラスターの電子構造
発表情報：
日本物理学会 2011年秋季大会
キーワード：
概要：
抄録：
英語フィールド
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