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Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

発表形態：: 原著論文
主要業績：: 主要業績
単著・共著：: 共著
発表年月：: 2007年

DOI：
会議属性：: 指定なし
査読：: 有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：

Y. Ohtsu, H. Noda, C. Nakamura, T. Misawa, H. Fujita, K. Yukimura, M. Akiyama and C. Diplasu

題名：

Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

発表情報：

Surf. Coat. Technol. 巻: 201 ページ: 6674-6677

キーワード：

概要：

抄録：

英語フィールド

Author：

Y. Ohtsu, H. Noda, C. Nakamura, T. Misawa, H. Fujita, K. Yukimura, M. Akiyama and C. Diplasu

Title：

Effect of negative pulsed high-voltage-bias on diamond-like carbon thin film preparation using capacitively coupled radio frequency plasma chemical vapor deposition

Announcement information:

Surf. Coat. Technol. Vol: 201 Page: 6674-6677