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Preparation of Water-Repellent Thin Film with Low-Electron-Temperature Plasma CVD Using Mixture Gases of C2H2F2 and Ar

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2010年02月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
K.Kihara, Y.Ohtsu, T.Misawa
題名：
Preparation of Water-Repellent Thin Film with Low-Electron-Temperature Plasma CVD Using Mixture Gases of C2H2F2 and Ar
発表情報：
Proc. 27th Symp. Plasma Processing, Yokohama, P1-34. ページ: 195-196
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
K.Kihara, Y.Ohtsu, T.Misawa
Title：
Preparation of Water-Repellent Thin Film with Low-Electron-Temperature Plasma CVD Using Mixture Gases of C2H2F2 and Ar
Announcement information:
Proc. 27th Symp. Plasma Processing, Yokohama, P1-34. Page: 195-196

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