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Development of Frequency Plasma Sputtering Device for Preparation of High-Temperature Piezoelectric-Sensor Thin Films

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2010年02月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
S.Tanaka, T.Misawa, Y.Ohtsu, M.Akiyama
題名：
Development of Frequency Plasma Sputtering Device for Preparation of High-Temperature Piezoelectric-Sensor Thin Films
発表情報：
Proc. 27th Symp. Plasma Processing, Yokohama, P1-33. ページ: 193-194
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
S.Tanaka, T.Misawa, Y.Ohtsu, M.Akiyama
Title：
Development of Frequency Plasma Sputtering Device for Preparation of High-Temperature Piezoelectric-Sensor Thin Films
Announcement information:
Proc. 27th Symp. Plasma Processing, Yokohama, P1-33. Page: 193-194

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