MF研究者総覧

教員活動データベース

詳細

Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2009年09月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y.Ohtsu, K.Hino, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
題名：
Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films
発表情報：
Abstract of 16th International Conference of Surface Modification of Materials by Ion Beams, Tokyo.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y.Ohtsu, K.Hino, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
Title：
Production of Dual Frequency Sputtering Plasma for Preparation of Aluminum Nitride Thin Films
Announcement information:
Abstract of 16th International Conference of Surface Modification of Materials by Ion Beams, Tokyo.

Copyright © MEDIA FUSION Co.,Ltd. All rights reserved.