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Production of high-density capacitively coupled plasma with RF multi-hollow cathode and/or high secondary electron emission for DLC film preparation

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2009年10月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Y. Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
題名：
Production of high-density capacitively coupled plasma with RF multi-hollow cathode and/or high secondary electron emission for DLC film preparation
発表情報：
Plasma Process and Polymer 巻: 6 ページ: S458-S461
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Y. Ohtsu, C.Nakamura, T.Misawa, H.Fujita, M.Akiyama and K.Yukimura
Title：
Production of high-density capacitively coupled plasma with RF multi-hollow cathode and/or high secondary electron emission for DLC film preparation
Announcement information:
Plasma Process and Polymer Vol: 6 Page: S458-S461

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