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二周波プラズマスパッタリングを用いた窒化アルミニウム薄膜の生成

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2009年01月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
樋野幸己、三沢達也、大津康徳、藤田寛治、秋山守人
題名：
二周波プラズマスパッタリングを用いた窒化アルミニウム薄膜の生成
発表情報：
The 2nd International Conference on Plasma-Nano-Technology & Science　(January 22, 2009)
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
K.Hino, T.Misawa, Y.Ohtsu, H.Fujita and M.Akiyama
Title：
Preparation of aluminum nitride thin film with dual frequency plasma sputtering
Announcement information:
The 2nd International Conference on Plasma-Nano-Technology & Science　(January 22, 2009)

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